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鈣鈦礦鍍膜機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱北京鴻瑞正達科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2024/3/23 17:50:16
  • 訪問次數(shù)271
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北京鴻瑞正達科技有限公司—實驗室整體建設解決方案集成者 鴻瑞正達主要服務于高等院校、科研院所和研發(fā)企業(yè),專注于科研領(lǐng)域,助力科研成果轉(zhuǎn)化。公司提供材料研究成套設備及整套解決方案,包括:高壓科學材料、金屬材料、電池研發(fā)、地質(zhì)地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領(lǐng)域的科研成套設備。 公司本著“、服務至上”的宗旨,刻苦奮斗、拼搏進取的精神,以自立自強為目標,為科研院所、高校、研發(fā)企業(yè)等多類客戶,提供全面的實驗 室整體建設解決方案,真正實現(xiàn)材料研究實驗設備一站式采購的便利我們的服務理念是:讓科研更高效、便捷。 公司于2020年3月份成立,創(chuàng)始人黃皇先生一直從事于科研行業(yè),他深知科技立族立、 科技強則國家強 ,努力創(chuàng)造更多原創(chuàng)科技成果,為建成世界科技強國、實現(xiàn)中華民族偉大復興的中國夢而努力奮斗。
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產(chǎn)品簡介:鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成
鈣鈦礦鍍膜機 產(chǎn)品信息


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產(chǎn)品簡介: 鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加 熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。 適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄 膜等, 可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作, 也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作, 廣泛應用 于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、 OLED 等研究領(lǐng)域。鈣鈦礦鍍膜機工作過程中樣品位于真空室上 方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,防止蒸發(fā)源被污染。


產(chǎn)品名稱

鈣鈦礦鍍膜機

主要特點

1、樣品位于真空室上方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。


2、設有烘烤加熱功能,可在鍍膜過程中加熱樣品, 烘烤加熱溫度可達 180℃。


3、設有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。

技術(shù)參數(shù)

1、鍍膜室:不銹鋼材料,采用方形前后開門結(jié)構(gòu),內(nèi)帶有防污板, 腔室尺寸約為 600mm×


450mm×450mm

2、真空排氣系統(tǒng):采用分子泵+機械泵系統(tǒng)


3、真空度:鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa


4、系統(tǒng)漏率:≤ 1×10-7Pa


5、蒸發(fā)源:安裝在真空室的下底上; 有機蒸發(fā)源 4 個、 容積 5ml ,2 臺蒸發(fā)電源,可測溫、





控溫, 加熱溫度 400℃, 功率 0.5KW;無機蒸發(fā)源 4 套、 容積 5ml ,2 臺蒸發(fā)電

源, 加熱電流 300A ,功率 3.2KW;蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開



6、樣品架:安裝在真空室的上蓋上, 可放置 ?120mm 的樣品、載玻片, 旋轉(zhuǎn)速度 0-30rpm


7、加熱溫度: RT-180℃,測溫、控溫


8、膜厚控制儀:石英晶振膜厚控制儀, 膜厚測量范圍 0-999999?


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