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暗場高光譜顯微成像系統(tǒng)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳維爾克斯光電有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2024/2/28 13:54:53
  • 訪問次數(shù)233
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深圳維爾克斯光電有限公司是的進(jìn)口光電代理商,代理的激光、光電、光機(jī)械類產(chǎn)品,應(yīng)用涵蓋物理與光學(xué)、化學(xué)、材料、生命科學(xué)等領(lǐng)域。我們與國內(nèi)各大高校、研究所、激光設(shè)備公司和及精密儀器公司保持著緊密的聯(lián)系,提供針對不同應(yīng)用的專業(yè)技術(shù)支持。 維爾克斯光電在衍射光學(xué)、微光學(xué)、太赫茲元件、、光束分析儀、太陽光模擬器、顯微鏡載物臺、紅外熱像儀、電控平移臺、紅外探測器、光學(xué)儀器等領(lǐng)域具有多年的產(chǎn)品和技術(shù)積累,能夠?yàn)橛脩籼峁└鞣N高性價比的解決方案。
暗場高光譜顯微成像系統(tǒng)
暗場高光譜顯微成像系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

IMA™高光譜顯微成像系統(tǒng)400~1620nm,光學(xué)分辨率<2nm


加拿大Photon ect生產(chǎn)的 IMA™高光譜成像顯微鏡可提供400 nm~1620 nm范圍內(nèi)的光譜和空間信息, 光學(xué)分辨率<2nm,這種高光譜顯微鏡搭配高效率的分析系統(tǒng),可快速繪制光致發(fā)光、電致發(fā)光、熒光等圖像,顯示反射率和透射率等參數(shù),是一種高效率的400~1620nm熒光高光譜成像系統(tǒng)暗場高光譜顯微成像系統(tǒng)

IMA™高光譜顯微成像系統(tǒng)可以用于多路復(fù)用系統(tǒng),如下圖所示,透明玻璃上的碳納米管顯示出17種假色圖樣,分別對應(yīng)17種不同的波長。

IMA納米高光譜顯微成像系統(tǒng)可以不均勻材質(zhì)的缺陷識別。左下圖代表了鈣鈦礦分子用C60作為電子傳輸層,C60電致發(fā)光分裂衍生的準(zhǔn)費(fèi)米能級的映射;右下圖代表了當(dāng)前傳輸效率的映射。

Photon ect高光譜暗場顯微鏡可進(jìn)行樣品生長和降解的研究。例如下圖表示鈣鈦礦晶體的光致發(fā)光中心波長在770nm的黑白和假色圖,以及分別對應(yīng)的高光譜數(shù)據(jù)。

IMA高光譜成像儀可用于細(xì)胞標(biāo)記。如下A圖代表60nm的金納米顆粒標(biāo)記的人類乳腺癌細(xì)胞的暗場圖像,B圖代表60nm的金納米顆粒標(biāo)記的人類乳腺癌細(xì)胞在550nm處的圖像,C圖代表乳腺癌細(xì)胞的圖像,D圖代表金納米顆粒在不同區(qū)域的光譜。


加拿大Photon ectIMA高光譜暗場顯微鏡規(guī)格:

VIS-SWIR型號 400~1620nm

 

光學(xué)規(guī)格

VIS 400~1000nm

SWIR 900~1620nm

 

光學(xué)分辨率(FWHM

< 2 nm

< 4 nm

 

光譜通道

連續(xù)可調(diào)

 

空間分辨率

亞微米(受顯微鏡物鏡限制)

 

相機(jī)

CCDEMCCDsCMOS

Photon ec公司的InGaAs相機(jī)

ZephIR1.7Alize1.7

 

激發(fā)波長(高達(dá)3個)

405447532561660730785808nm(其他波長可定制)

 

顯微鏡特點(diǎn)

科研級別的產(chǎn)品,可正放或倒放

 

波長分辨率精度

FWHM/8

 

掃描速度

單波長150 ms

 

XY方向的行程

76mm×52mm(搭配手動臺)

 

Z軸分辨率

100nm

 

白光照明

透射、反射,汞、鹵素

 

照明選項

熒光模式,暗場模式(有性或干性)

 

視頻模式

百萬像素攝像頭,且樣品可視化

 

數(shù)據(jù)處理

空間濾波,數(shù)據(jù)統(tǒng)計,光譜提取,數(shù)據(jù)歸一化,

光譜標(biāo)定,光譜疊加,中心位置圖

 

高光譜數(shù)據(jù)格式

HDF5FITS

 

軟件配置

電腦(Windows 10-64 bits,PHySpec™控制分析軟件(含電腦)

 

尺寸

150cm×85cm×82cm

 

重量

80kg

 

電源配置

120VAC/12A/60Hz230VAC/12A/50Hz

 

附件及可選項

物鏡放大率

10×,20×,40×,50×,60×,100×

光譜范圍延伸

例如UV選項中FWHM=10nm

電動臺

行程100mm×100mm,分辨率22nm

濾光輪

6個帶通濾波器

電致發(fā)光模塊

第二個相機(jī)接口

光度校準(zhǔn)

高分辨率模塊:900nm~1620nmFWHM<1 nm

光學(xué)臺建議搭配氣升式防震臺;

900mm×1800mm×60mm36''×72''×2.4'')或

900mm×900mm×60mm36''×36''×2.4'')光學(xué)臺緊挨著標(biāo)準(zhǔn)的900mm×900mm×60mm36''×36''×2.4'')光學(xué)臺


Photon ectIMA高光譜顯微成像系統(tǒng)特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn):

-圍包含可見光、近紅外、短波長紅外范圍(400~1620nm

-快速繪制光致發(fā)光、電致發(fā)光、熒光成像圖像,顯示反射率、透過率參數(shù)

-系統(tǒng)更高效


IMA高光譜成像顯微鏡應(yīng)用:

-生物化學(xué)和納米傳感器(單壁碳納米管的多路復(fù)用或近紅外染料或熒光)

-金納米粒子暗場成像

-鈣鈦礦(CIS)、銅銦鎵硒(CIGS)、硅(Si)、碳化硅(SiC)等光譜和空間分析

-同側(cè)光譜分析

- GaAs準(zhǔn)費(fèi)米能級映射


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