開啟微納3D精密制造之門
BMF nanoArch® P140 系統簡介
nanoArch P140是可以實現實現高精度微尺度3D打印的設備系統,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統,將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢,被認為是目前前景的微納加工技術之一。
科研級3D打印系統
nanoArch® P140是工業級3D打印系統,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,可以兼顧微尺度和宏觀樣件的打印,從而實現超高精度大幅面的樣件制作,非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
nanoArch® P140 系統性能
光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 10μm | ||
XY打印精度 10~ 40μm | 打印層厚 10~40μm | 打印樣品尺寸 19.2mm(L)*10.8mm(W)*45mm(H) | ||
打印文件格式 STL | 系統外形尺寸 1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3 | 機器外形尺寸 650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3 | ||
重量 300kg | 電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | ||
設備功率 2000W |
注:①、樣品高度典型10mm,45mm
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,PEGDA等。
個性化
405nm固化波段的光敏樹脂材料 ,支持透明樹脂,柔性樹脂,硬性樹脂,納米顆粒摻雜復合樹脂,4D打印樹脂,生物醫療樹脂等,需適配不同的工藝和模型,不保證打印性能
系統特點
高精度
(XY打印精度高達10μm)
(XY打印精度高達10μm)
低層厚
(10μm~40μm的打印層厚)
(10μm~40μm的打印層厚)
微尺度大幅面的打印能力
光學監控系統,自動對焦功能
優良的光源穩定性
配備完善的樣品后處理組件 包括抽真空及紫外后固化