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Ce:YAG,Ce:YAP,Ce:LYSO 晶體

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳維爾克斯光電有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2024/2/7 14:48:47
  • 訪問次數(shù)320
產(chǎn)品標簽:

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深圳維爾克斯光電有限公司是的進口光電代理商,代理的激光、光電、光機械類產(chǎn)品,應用涵蓋物理與光學、化學、材料、生命科學等領(lǐng)域。我們與國內(nèi)各大高校、研究所、激光設(shè)備公司和及精密儀器公司保持著緊密的聯(lián)系,提供針對不同應用的專業(yè)技術(shù)支持。 維爾克斯光電在衍射光學、微光學、太赫茲元件、、光束分析儀、太陽光模擬器、顯微鏡載物臺、紅外熱像儀、電控平移臺、紅外探測器、光學儀器等領(lǐng)域具有多年的產(chǎn)品和技術(shù)積累,能夠為用戶提供各種高性價比的解決方案。
Ce:YAG,Ce:YAP,Ce:LYSO 晶體可以吸收伽馬射線或中子等高能輻射,并將該能量轉(zhuǎn)化為可見光子的短脈沖。立陶宛optogama可以提供此類閃爍晶體,有著機械阻力和穩(wěn)定性,良好的導熱性,衰減時間快,不吸濕等特點
Ce:YAG,Ce:YAP,Ce:LYSO 晶體 產(chǎn)品信息

optogama閃爍晶體衰減時間快,穩(wěn)定性高


optogama 提供高質(zhì)量的閃爍晶體,可吸收伽馬射線或中子等高能輻射,并將該能量轉(zhuǎn)化為可見光子的短脈沖。這些晶體具有密度高、運行速度快、輻射硬度大、性價比高等特點。閃爍晶體可用于科研、醫(yī)療和工業(yè)應用,可根據(jù)要求提供定制解決方案。

此外,閃爍晶體的訂貨數(shù)量是2件。



Ce:LYSO 晶體

Lu?SiO?: Ce是一種相對較新的閃爍晶體,因其速度快、機械強度高和耐化學性好而聞名。

主要特點:

衰減時間快,光輸出高,機械阻力和穩(wěn)定性,高密度和抗輻射硬度

應用:

斷層掃描系統(tǒng) (PET),醫(yī)療XCT,高能物理,輻射探測器,石油測井,安全掃描,伽馬光譜


光譜和熱機械性能:

密度(g/cm 3)

7.2

熔點 (°C)

2050

硬度(莫氏)

5.8

衰減時間 (ns)

64

有效原子序數(shù)

40-45

發(fā)射峰(nm)

420

光產(chǎn)率(光子/MeV)

29000

光輸出(至 NaI: Tl)

~85%

折射率

1.82

吸濕性


參數(shù)規(guī)格:

尺寸

陣列

長度

鍍膜

面尺寸公差

長度公差

SKU

4x4 mm

16

/

+/-0.15

+/-0.15

19587

8 x 8 mm

64

/

+/-0.15

+/-0.15

19588

16 x16 mm

256

/

+/-0.15

+/-0.15

19589



Ce:YAG 晶體

Ce:YAG晶體具有優(yōu)異的機械性能和耐化學性,可用于環(huán)境的檢測,并能用薄型屏幕進行生產(chǎn)。它還具有很高的發(fā)光效率,其峰值發(fā)射(550nm)可以與硅光電二極管探測器器件有效耦合。

主要特點

機械阻力和穩(wěn)定性,良好的導熱性,衰減時間快,不吸濕

應用:

低能輻射和阿爾法粒子檢測,電子和X射線成像屏幕,β和X射線計數(shù)


光譜和熱機械性能:


密度(g/cm 3

4.56

熔點 (°C)

1970

硬度(莫氏)

8.5

衰減時間 (ns)

70

有效原子序數(shù)

32

發(fā)射峰(nm)

550

光產(chǎn)率(光子/MeV

15000

光輸出(至 NaI: Tl

40%

折射率

1.82

吸濕性

能量分辨率

<8%



參數(shù)規(guī)格:

尺寸

厚度

鍍膜

表面平整度

表面質(zhì)量

面尺寸公差

長度公差

SKU

10 x 10 mm

1 mm

L/2

40/20 S/D

+/-0.15

+/-0.15

19562

20 x 20 mm

1 mm

L/2

40/20 S/D

+/-0.15

+/-0.15

19563

10 x 10 mm

1 mm

L/2

40/20 S/D

+/-0.15

+/-0.15

19564

20 x 20 mm

1 mm

L/2

40/20 S/D

+/-0.15

+/-0.15

19565



Ce:YAP晶體

Ce:YAP閃爍體是一種快速、機械強度高、耐化學腐蝕的閃爍晶體。其高機械性能使其能夠進行精密加工,并且可以在晶體的入口表面直接沉積一層非常薄的鋁層來制作入口窗口。

主要特點:

機械阻力和穩(wěn)定性,衰減時間快,不吸濕

應用:

伽瑪和 X 射線計數(shù),電子顯微鏡,X 射線成像屏幕,斷層掃描系統(tǒng);


光譜和熱機械性能:

密度(g/cm 3

5.4

熔點 (°C)

1875

硬度(莫氏)

8.5

衰減時間 (ns)

25

發(fā)射峰(nm)

370

光產(chǎn)率(光子/MeV

25000

光輸出(至 NaI: Tl

70%

折射率

1.96

吸濕性

能量分辨率

<5%


參數(shù)規(guī)格:

尺寸

厚度

鍍膜

表面平整度

表面質(zhì)量

面尺寸公差

長度公差

SKU

10 x 10 mm

1 mm

L/2

40/20 S/D

+/-0.15

+/-0.15

19582

20 x 20 mm

1 mm

L/2

40/20 S/D

+/-0.15

+/-0.15

19586


關(guān)鍵詞:電子顯微鏡
15700106413
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