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環(huán)保APP正式上線

激光分子束外延鍍膜系統(tǒng)

參考價(jià)面議
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  • 公司名稱北京英格海德分析技術(shù)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2024/2/2 13:17:54
  • 訪問(wèn)次數(shù)130
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北京英格海德分析技術(shù)有限公司是分析儀器制造商在中國(guó)的代理。多年來(lái),我們?cè)诳蛻糁薪⒘肆己玫穆曌u(yù)。我們的客戶多數(shù)都是工作在新技術(shù)研究的前沿,如催化化學(xué)、氫能研究、等離子體物理、表面科學(xué)、大氣環(huán)境監(jiān)測(cè)、半導(dǎo)體材料和微納米測(cè)量領(lǐng)域。我們與他們保持著密切的、積極的關(guān)系。 我們?cè)跒榭蛻籼峁﹥x器設(shè)備的同時(shí),還為他們提供了及時(shí)周到的售后服務(wù),讓用戶無(wú)后顧之憂,使其專心科研。
The laser MBE is very suitable for the atomic layer controlled growth of oxides / nitrides, and also suits for a simple and inexpensive apparatus comparing with conventional MBE.
激光分子束外延鍍膜系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

PLD MBE激光分子束外延鍍膜系統(tǒng)的主體是一個(gè)UHV激光分子束外延裝置。使用準(zhǔn)分子激光進(jìn)行基底加熱;脈沖激光做為幅照源。使用兩個(gè)組合的掩膜和一個(gè)掃描式的反射高能電子衍射(RHEED)設(shè)備,系統(tǒng)能同時(shí)制備很多樣品(250個(gè)/10mm2)。每個(gè)樣品都是原子級(jí)的控制,可以設(shè)置不同的生長(zhǎng)條件。在UHV中使用激光輻照的組合的掩模和靶材。
  這個(gè)組合膜沉積的概念,是由于使用分離的基底、小區(qū)域的掩模和每個(gè)樣品不同的生長(zhǎng)參數(shù)導(dǎo)致的沉積條件的系統(tǒng)變化。的貢獻(xiàn)就是可以快速地篩選生長(zhǎng)條件。

 

·精準(zhǔn)層蔽控制原子

·層外延膜結(jié)構(gòu)或形態(tài)

·均勻或梯度的快速

·振蕩信號(hào)需依成膜條件和成膜品質(zhì)

·專業(yè)LabView提供全自動(dòng)制程數(shù)字控制

·9項(xiàng)日本、3個(gè)國(guó)際

 

·激光加熱:            溫度 >1000)

·高壓可操作:          ~133Pa

·6種靶材的公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)

·鍍膜腔真空度:        ~5e-9Torr

·Load-Lock腔:         ~5e-7 Torr 可放置兩個(gè)樣品以及四個(gè)靶材

·全自動(dòng)數(shù)字控制

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