西安明克斯向國內用戶現貨提供DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置,歡迎選購。
一、DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置概述:
| DHDM-1 | DHDM-2 | DHDM-3 |
沉積室 | 玻璃真空室 | 不銹鋼真空室 | |
濺射電源 | 直流200~700V可調,功率0~1000W可調 | ||
磁控靶 | Φ50mm平面靶 | ||
真空系統 | 機械泵 | 機械泵+擴散泵 | 機械泵+分子泵 |
極限真空 | 6.7×10-1Pa | 5×10-4Pa | 8×10-5Pa |
恢復真空 | 2Pa | 5×10-3Pa | 8×10-4Pa |
進氣系統 | 二路轉子流量計或二路質量流量計 | ||
襯底溫度 | 室溫至300℃可調可控; | ||
真空測量 | 數顯電阻真空計 | 數顯復合真空計 |
DHDM-2 詳細規格參數
DHDM-2 1、濺射鍍膜室:玻璃鐘罩+不銹鋼底座,真空室尺寸:Φ300×360mm;
2、濺射電源:直流200~1000 V,功率0~1000 W可調;
3、濺射靶:Φ2英寸磁控靶,基片臺和磁控靶可調距離:20~40 mm;
4、基片溫度:室溫~200℃ PID控制;
5、真空測量:數顯電阻真空計;
6、進氣系統:二路質量流量計;
7、真空系統:2XZ-4B機械泵+K-100擴散泵;
8、極限真空:5×10-4 Pa;
9、恢復真空:5×10-3 Pa
10、工作電源:AC220V±5%,50Hz;
11、整機配有水流報警系統,在水壓不夠或斷水時報警,并切斷濺射電源、機械泵電源等;采用獨立式電控柜,帶獨立滾輪,方便維修。電氣元件:主要采用法國施耐德品牌或韓國 LG 品牌產品,產品故障率低;
12、隨機配有高純度銅靶材。
配件 冷卻水系統;注:可用實驗室自來水
氣源:氬氣(99.99%),40升鋼瓶帶減壓閥。
超聲波清洗機:3升/90W/59HZ
DHDM-2 1、濺射鍍膜室:玻璃鐘罩+不銹鋼底座,真空室尺寸:Φ300×360mm;
2、濺射電源:直流200~1000 V,功率0~1000 W可調;
3、濺射靶:Φ2英寸磁控靶,基片臺和磁控靶可調距離:20~40 mm;
4、基片溫度:室溫~200℃ PID控制;
5、真空測量:數顯電阻真空計;
6、進氣系統:二路質量流量計;
7、真空系統:2XZ-4B機械泵+K-100擴散泵;
8、極限真空:5×10-4 Pa;
9、恢復真空:5×10-3 Pa
10、工作電源:AC220V±5%,50Hz;
11、整機配有水流報警系統,在水壓不夠或斷水時報警,并切斷濺射電源、機械泵電源等;采用獨立式電控柜,帶獨立滾輪,方便維修。電氣元件:主要采用法國施耐德品牌或韓國 LG 品牌產品,產品故障率低;
12、隨機配有高純度銅靶材。
配件 冷卻水系統;注:可用實驗室自來水
氣源:氬氣(99.99%),40升鋼瓶帶減壓閥。
超聲波清洗機:3升/90W/59HZ
DH450-ZZK 真空鍍膜機 | 本裝置適用于在塑膠、玻璃、陶瓷等材質的工件上鍍制金屬膜、裝飾膜、硬質膜、金剛膜、或光學膜等科研與生產工作。 主要技術參數 1、真空室:鍍膜室尺寸:Φ450×540mm;結構:箱式前開門結構,后置抽氣系統,手動推拉式;觀察窗:鍍膜室門上配有Φ100mm觀察窗; 2、蒸發組件:蒸發電源(3KW/10V)2組;水冷蒸發電極2對; 3、控制方式:手動按鍵式; 4、旋轉夾具:球面拱形夾具,0~30r/min無級可調(可根據要求定制); 5、工件烘烤:室溫~300℃(PID控制); 6、真空測量:數顯復合真空計; 7、供電電源:三相AC380V,50Hz; 8、選配件:石英晶振膜厚測控儀、高壓離子轟擊; 9、用戶需自備或另購冷卻水系統。 | 1、真空系統:機械泵(2XZ-8B機械泵)+擴散泵(K-200不銹鋼擴散泵); 2、極限真空:2×10-4Pa; 3、恢復真空:5×10-3 Pa(小于25min)。 |
DH450-ZZF 真空鍍膜機 | 1、真空系統:機械泵(2ZX-8機械泵)+分子泵(FF160/620分子泵); 2、極限真空:6.7×10-5Pa; 3、恢復真空:5×10-4Pa(小于45min)。 | |
DH-500JJC 多靶磁控濺射鍍膜機 | 該設備是單室多靶磁控濺射鍍膜設備,主要用磁控濺射或反應濺射的方法制備金屬膜,半導體膜,陶瓷膜,介質復合膜及多層膜和其它化學反應膜及摻雜膜等。 適用于鍍制各種單層膜,多層膜及摻雜膜系。 主要技術參數 1、真空室內腔尺寸:Φ500×600(mm)為圓筒式電動上掀蓋全不銹鋼結構; 2、極限真空度:≤5×10-5 Pa(系統經烘烤); 3、恢復真空:從大氣抽至6.4×10-4 Pa ≤(40分鐘); 4、觀察窗:規格Φ100mm帶護目遮板 數量:2個; 5、濺射靶組件:3組Φ2英寸磁控靶,基片臺和磁控靶可調距離:110~130mm可調,并有調位距離指示;三套靶電動擋板,每個靶前面配有一套靶擋板,電動控制可遮擋三個工件位置;靶在下,基片在上,向上濺射成膜;射頻濺射與直流濺射兼容,靶內有水冷; 6、樣品轉臺:基片尺寸45×60mm;三個可以放置基片位置,一個基片臺可以加熱;加熱溫度可達到500℃;基片轉盤能夠0~360°來回轉動。拆掉加熱裝置測量線和電源線后能夠實現連續回轉;基片可以加負偏壓,在0~-200V連續可調; 7、真空系統:機械泵+分子泵準無油真空系統; 8、工作氣路:二路質量流量控制器控制進氣; 9、濺射電源:直流電源 1000W 1臺;射頻電源 500W(13.56MHz)2臺; 10、供電電源:三相AC380V,50Hz; 11、真空測量:數顯復合真空計; 12、配有膜厚控制系統; 13、選購件:負偏壓電源、循環水機組等。 | |
產品名稱/型號 | 產品配置/技術參數性能 | |
DH-900DZX 電弧/磁控濺射箱式鍍膜機 | PVD 涂層技術不僅可提供炫耀的色彩涂層,還具有超硬度、耐磨損、耐腐蝕、抗劃痕和應力碎裂,而且在日常磨損條件下可保持耀眼的光澤,是應用于裝飾工業的主流技術。PVD 涂層技術包括電弧離子鍍、磁控濺射鍍(直流、脈沖、中頻和非平衡)以及復合鍍膜。 可獲得顏色包括: 1. TiN( 仿金色); 2. ZrHfN、TiZrN( 仿金色); 3. TiC 、TiNC(亮灰色、槍黑色); 4. TiNC、TiAlN( 玫瑰金、咖啡色); 5. TiO、 TiAlN( 寶石蘭色、彩虹色); 6. ZrN( 黃銅色、鋯金色); 7. ZrO( 仿不銹鋼色); 8. Ni、Cr、AL、Au、Ag( 金、銀、鎳、鉻、鋁等單色金屬膜)。 主要技術參數 1、真空腔室尺寸:Φ900×H1000mm;可鍍膜空間:Φ600×H700mm; 2、極限真空:5.0×10-4Pa; 3、工件架:8根公自轉桿+4根公轉桿,公/自轉0-20RPM,可加熱烘烤至500℃; 4、矩形靶尺寸:650×150mm 矩形,非平衡磁控濺射靶,對靶結構; 5、濺射電源:中頻脈沖恒流源,電壓可調。頻率 40KHz,功率 20KW; 6、弧源:φ100mm弧源; 7、電弧電源:250A 逆變弧電源,數量:六臺; 8、供電電源:三相AC380V,50Hz;整機功率30KW; 9、控制方式:PLC+PC自動; 10、強制水冷保護系統。 | |
DH-500ZZS 箱式電子束 蒸發鍍膜機 | 本箱式電子束蒸發鍍膜機由我公司和材料物理重點實驗室聯合研制。 適用于制備導電薄膜,半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,高性能薄膜研究及新材料科學研究工作。其主要特點為功能強、鍍膜質量穩定、重復性好、操作簡便。 主要技術參數 1、鍍膜室體積:500×500×600mm,特殊規格可定做; 2、極限真空:6.7×10-5 Pa,恢復真空:從大氣抽至6.7×10-4 Pa ≤(40分鐘); 3、抽氣系統:直聯機械泵+復合分子泵組成;真空測量:復合數顯真空計; 4、蒸發源:電子束蒸發源:270°E型電子槍及高壓電源,電子槍功率0~6KW可調;電阻蒸發源:銅水冷電極4根,功率:3kW/10V兩組; 5、結構形式:立式前開門后置抽氣系統; 6、工件烘烤溫度:室溫~500℃可控可調(PID控溫); 7、旋轉夾具:公轉或行星公自轉夾具。速度從 0r~30r/min 無級可調; 8、供電電源:三相AC380V,50Hz;整機功率22KW; 9、選配件:光學膜厚測量系統、石英晶振測厚儀、高壓離子轟擊、霍爾離子源、冷卻水機組等。 |