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DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置DH450-ZZK真空鍍膜機/DH450-ZZF真空鍍膜機/DH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機/DH-900DZX電弧/磁控濺射箱式鍍膜機/DH-500ZZS箱...

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱西安明克斯檢測設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地西安市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2024/1/29 12:31:50
  • 訪問次數285
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西安明克斯檢測設備有限公司位于古城西安,與學府西安交通大學相鄰,地理位置*,交通便利。公司與西安交大,西安長安大學及多家科研機構究合作,使所提供的產品質量更高,性能更*。自2001年成立以來,現已經發展成為一家集研發、生產和銷售各類實驗室儀器儀表為一體的專業公司。公司依靠雄厚的技術力量和良好的信譽,立足于科研、教學和實驗室設備領域,為廣大用戶提供優質的產品和服務。公司從成立之日起就以“提供優質產品,滿足客戶需求,完善售后服務”為宗旨,贏得了廣泛贊譽,產品廣泛應用于、大學、科研機構、航空航天、電子、機械、汽車、紡織、五金、塑膠、印刷、食品、醫院、包裝、模具等行業、部門。為其實驗室的建立、規劃,產品的研發、檢驗提供了支持。 我公司產品主要是用于企業、學校、研究所的實驗室。有各種類型的材料試驗機;各種規格溫度的試驗箱;各種容積壓力的反應釜;石油儀器;布、洛、維、肖、邵、巴氏硬度計、水果硬度計、地板硬度計、眼鏡硬度計;各種測量范圍的測厚儀;油漆涂料儀器;光學儀器;氣體檢測儀器;建筑公路常用儀器儀表等。也有美國、瑞士、德國、日本、法國等國的進口設備,我們代理的品牌有:美國巴勃-考曼公司的生產934-1型巴氏硬度計;日本產的FHM-5水果硬度計;日本柯尼卡美能達測色儀;日本川鐵SH-21超聲波硬度計;日本RION(理音)測振儀、軸承診斷儀;德國K.K超聲波硬度計、超聲波探傷儀、超聲波測厚儀;德國EPK涂層測厚儀;美國博力飛粘度計、流變儀;德國BYK公司色差儀;瑞士杰恩爾的光澤計等。公司同時代理、經銷國內外數百家品牌的檢測設備。主要涉及:長度類、力學類、光學類、無損測試、理化分析、環境實驗儀器、專用量儀及環境試驗等系列,為企業質量管理起著重要的作用,并且為企業認證提供完善硬件設備服務。 經過多年的努力,我公司建立了完善的營銷服務網絡與服務體系,現擁有雄厚的資金實力和售前、售中、售后的技術服務。公司始終以“精密、專業、合作、服務”為原則,將精密的檢測提供提供到您的實驗室,愿與您攜手共進,共創美好未來。 真誠歡迎您的來電、來訪!
西安明克斯向國內用戶現貨提供DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置,歡迎選購。一、DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置概述: DHDM-1DHDM-2DHDM-3沉積室玻璃真空室不銹鋼真空室濺射電源直流200~700V可調,功率0~1000W可調磁控靶Φ50mm平面靶真空系統機械泵機械泵+擴散泵機械泵+分子泵極限真空6.7×10-1Pa5×10-4Pa8×10-5Pa 恢復真空2Pa5×10-3......
DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置DH450-ZZK真空鍍膜機/DH450-ZZF真空鍍膜機/DH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機/DH-900DZX電弧/磁控濺射箱式鍍膜機/DH-500ZZS箱... 產品信息
西安明克斯向國內用戶現貨提供DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置,歡迎選購。

一、DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置概述:

DHDM-1
DHDM-2
DHDM-3
沉積室
玻璃真空室
不銹鋼真空室
濺射電源
直流200~700V可調,功率0~1000W可調
磁控靶
Φ50mm平面靶
真空系統
機械泵
機械泵+擴散泵
機械泵+分子泵
極限真空
6.7×10-1Pa
5×10-4Pa
8×10-5Pa
恢復真空
2Pa
5×10-3Pa
8×10-4Pa
進氣系統
二路轉子流量計或二路質量流量計
襯底溫度
室溫至300℃可調可控;
真空測量
數顯電阻真空計
數顯復合真空計
DHDM-2 詳細規格參數
DHDM-2 1、濺射鍍膜室:玻璃鐘罩+不銹鋼底座,真空室尺寸:Φ300×360mm;
2、濺射電源:直流200~1000 V,功率0~1000 W可調;
3、濺射靶:Φ2英寸磁控靶,基片臺和磁控靶可調距離:20~40 mm;
4、基片溫度:室溫~200℃ PID控制;
5、真空測量:數顯電阻真空計;
6、進氣系統:二路質量流量計;
7、真空系統:2XZ-4B機械泵+K-100擴散泵;
8、極限真空:5×10-4 Pa;
9、恢復真空:5×10-3 Pa
10、工作電源:AC220V±5%,50Hz;
11、整機配有水流報警系統,在水壓不夠或斷水時報警,并切斷濺射電源、機械泵電源等;采用獨立式電控柜,帶獨立滾輪,方便維修。電氣元件:主要采用法國施耐德品牌或韓國 LG 品牌產品,產品故障率低;
12、隨機配有高純度銅靶材。
配件 冷卻水系統;注:可用實驗室自來水
氣源:氬氣(99.99%),40升鋼瓶帶減壓閥。
超聲波清洗機:3升/90W/59HZ
DH450-ZZK
真空鍍膜機
本裝置適用于在塑膠、玻璃、陶瓷等材質的工件上鍍制金屬膜、裝飾膜、硬質膜、金剛膜、或光學膜等科研與生產工作。
主要技術參數
1、真空室:鍍膜室尺寸:Φ450×540mm;結構:箱式前開門結構,后置抽氣系統,手動推拉式;觀察窗:鍍膜室門上配有Φ100mm觀察窗;
2、蒸發組件:蒸發電源(3KW/10V)2組;水冷蒸發電極2對;
3、控制方式:手動按鍵式;
4、旋轉夾具:球面拱形夾具,0~30r/min無級可調(可根據要求定制);
5、工件烘烤:室溫~300℃(PID控制);
6、真空測量:數顯復合真空計;
7、供電電源:三相AC380V,50Hz;
8、選配件:石英晶振膜厚測控儀、高壓離子轟擊;
9、用戶需自備或另購冷卻水系統。
1、真空系統:機械泵(2XZ-8B機械泵)+擴散泵(K-200不銹鋼擴散泵);
2、極限真空:2×10-4Pa;
3、恢復真空:5×10-3 Pa(小于25min)。
DH450-ZZF
真空鍍膜機
1、真空系統:機械泵(2ZX-8機械泵)+分子泵(FF160/620分子泵);
2、極限真空:6.7×10-5Pa;
3、恢復真空:5×10-4Pa(小于45min)。
DH-500JJC
多靶磁控濺射鍍膜機
該設備是單室多靶磁控濺射鍍膜設備,主要用磁控濺射或反應濺射的方法制備金屬膜,半導體膜,陶瓷膜,介質復合膜及多層膜和其它化學反應膜及摻雜膜等。
適用于鍍制各種單層膜,多層膜及摻雜膜系。
主要技術參數
1、真空室內腔尺寸:Φ500×600(mm)為圓筒式電動上掀蓋全不銹鋼結構;
2、極限真空度:≤5×10-5 Pa(系統經烘烤);
3、恢復真空:從大氣抽至6.4×10-4 Pa ≤(40分鐘);
4、觀察窗:規格Φ100mm帶護目遮板 數量:2個;
5、濺射靶組件:3組Φ2英寸磁控靶,基片臺和磁控靶可調距離:110~130mm可調,并有調位距離指示;三套靶電動擋板,每個靶前面配有一套靶擋板,電動控制可遮擋三個工件位置;靶在下,基片在上,向上濺射成膜;射頻濺射與直流濺射兼容,靶內有水冷;
6、樣品轉臺:基片尺寸45×60mm;三個可以放置基片位置,一個基片臺可以加熱;加熱溫度可達到500℃;基片轉盤能夠0~360°來回轉動。拆掉加熱裝置測量線和電源線后能夠實現連續回轉;基片可以加負偏壓,在0~-200V連續可調;
7、真空系統:機械泵+分子泵準無油真空系統;
8、工作氣路:二路質量流量控制器控制進氣;
9、濺射電源:直流電源 1000W 1臺;射頻電源 500W(13.56MHz)2臺;
10、供電電源:三相AC380V,50Hz;
11、真空測量:數顯復合真空計;
12、配有膜厚控制系統;
13、選購件:負偏壓電源、循環水機組等。
產品名稱/型號
產品配置/技術參數性能
DH-900DZX
電弧/磁控濺射箱式鍍膜機
PVD 涂層技術不僅可提供炫耀的色彩涂層,還具有超硬度、耐磨損、耐腐蝕、抗劃痕和應力碎裂,而且在日常磨損條件下可保持耀眼的光澤,是應用于裝飾工業的主流技術。PVD 涂層技術包括電弧離子鍍、磁控濺射鍍(直流、脈沖、中頻和非平衡)以及復合鍍膜。
可獲得顏色包括:
1. TiN( 仿金色);
2. ZrHfN、TiZrN( 仿金色);
3. TiC 、TiNC(亮灰色、槍黑色);
4. TiNC、TiAlN( 玫瑰金、咖啡色);
5. TiO、 TiAlN( 寶石蘭色、彩虹色);
6. ZrN( 黃銅色、鋯金色);
7. ZrO( 仿不銹鋼色);
8. Ni、Cr、AL、Au、Ag( 金、銀、鎳、鉻、鋁等單色金屬膜)。
主要技術參數
1、真空腔室尺寸:Φ900×H1000mm;可鍍膜空間:Φ600×H700mm;
2、極限真空:5.0×10-4Pa;
3、工件架:8根公自轉桿+4根公轉桿,公/自轉0-20RPM,可加熱烘烤至500℃;
4、矩形靶尺寸:650×150mm 矩形,非平衡磁控濺射靶,對靶結構;
5、濺射電源:中頻脈沖恒流源,電壓可調。頻率 40KHz,功率 20KW;
6、弧源:φ100mm弧源;
7、電弧電源:250A 逆變弧電源,數量:六臺;
8、供電電源:三相AC380V,50Hz;整機功率30KW;
9、控制方式:PLC+PC自動;
10、強制水冷保護系統。
DH-500ZZS
箱式電子束
蒸發鍍膜機
本箱式電子束蒸發鍍膜機由我公司和材料物理重點實驗室聯合研制。
適用于制備導電薄膜,半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,高性能薄膜研究及新材料科學研究工作。其主要特點為功能強、鍍膜質量穩定、重復性好、操作簡便。
主要技術參數
1、鍍膜室體積:500×500×600mm,特殊規格可定做;
2、極限真空:6.7×10-5 Pa,恢復真空:從大氣抽至6.7×10-4 Pa ≤(40分鐘);
3、抽氣系統:直聯機械泵+復合分子泵組成;真空測量:復合數顯真空計;
4、蒸發源:電子束蒸發源:270°E型電子槍及高壓電源,電子槍功率0~6KW可調;電阻蒸發源:銅水冷電極4根,功率:3kW/10V兩組;
5、結構形式:立式前開門后置抽氣系統;
6、工件烘烤溫度:室溫~500℃可控可調(PID控溫);
7、旋轉夾具:公轉或行星公自轉夾具。速度從 0r~30r/min 無級可調;
8、供電電源:三相AC380V,50Hz;整機功率22KW;
9、選配件:光學膜厚測量系統、石英晶振測厚儀、高壓離子轟擊、霍爾離子源、冷卻水機組等。
相關參數 型號名稱: 主要參數: 備注:
15700106413
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