超高真空加熱臺是一種用于實驗室、半導體制造、光學器件制造等領域的高精度加熱設備。它主要是用于在高真空環境下對樣品進行加熱、退火、熱處理等操作，以控制樣品的結構和性能。
產品參數
| W 絲輻射加熱 | 500℃(8A) |
| W 絲電子束加熱 | 1000℃(-1KV 9A) |
| si直流加熱 | 1200℃(8.5A) |
超高真空加熱臺是一種用于實驗室、半導體制造、光學器件制造等領域的高精度加熱設備。它主要是用于在高真空環境下對樣品進行加熱、退火、熱處理等操作，以控制樣品的結構和性能。
超高真空加熱臺是一種用于實驗室、半導體制造、光學器件制造等領域的高精度加熱設備。
