此款手動磁控濺射鍍膜機具備以下幾個優(yōu)點：
1、目前高校包括研究所的實驗室面積都比較緊張，所以此款小型磁控濺射鍍膜機緊湊的設(shè)計更為合適;
2、配置3個3英寸可調(diào)節(jié)高度及角度的電控?fù)醢宕趴貫R射靶(可選擇高磁靶可鍍鐵、鎳等磁性材料);
3、配置1個4英寸可旋轉(zhuǎn)、可加熱、可加裝偏壓電源的樣品臺;
4、配置離子活化裝置;
5、配置內(nèi)隔板便于清理和帶擋板的觀察窗;
6、配置腔室烘烤加熱裝置;
7、配置高真空獲得及測量裝置;
8、配置膜厚實時監(jiān)控測量裝置;
9、配置3路質(zhì)量流量計充氣系統(tǒng)。
1.設(shè)備簡介
小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低;該系列設(shè)備主要部件采用進口或者國內(nèi)的配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性;另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據(jù)客戶的不同需求進行配置，比較靈活;標(biāo)配2只Φ2英寸永磁靶，一臺500W直流濺射電源，主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。
2.設(shè)備主要優(yōu)勢
2.1實用性：設(shè)備集成度高，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，可以滿足客戶實驗室空間不足的苛刻條件;通過更換設(shè)備上下法蘭可以實現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換，實現(xiàn)一機多用;
2.2方便性：設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調(diào)試簡單，既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔;
2.3高性價比：設(shè)備主要零部件采用進口或國內(nèi)品牌，以國產(chǎn)設(shè)備的價格擁有進口設(shè)備的配置，從而保證了設(shè)備的質(zhì)量及性能;
2.4安全性：獨立開發(fā)的PLC+觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎(chǔ)上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能，保證了設(shè)備的使用安全性能;
3.主要技術(shù)參數(shù)
3.1 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接;
3.2 樣品臺尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm可調(diào)，旋轉(zhuǎn)：0-20r/min可調(diào);
3.3 真空系統(tǒng)：機械泵(TRP-12,3L/s)+國產(chǎn)分子泵(可選進口分子泵);GDC-25b電磁擋板閥，DN25mm 限流閥;
3.4 極限真空：8.0×10-4Pa;
3.5 真空抽速：大氣～8×10-4Pa ≤ 60min;
3.6 真空測量：全量程復(fù)合真空計，測量范圍：105Pa～10-5Pa;
3.7 磁控靶：Φ2英寸2只(含靶擋板)，兼容直流電源和射頻電源;
3.8 濺射電源：直流和射頻可選;
3.9 質(zhì)量流量計：20sccm、50sccm質(zhì)量流量控制器各一套;
3.10控制方式：PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能;
3.11設(shè)備外形：L60cm×W60cm×H96cm機電一體化機架，預(yù)留1個KF40法蘭接口;
3.12 設(shè)備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制(一火一零一地);
3.13 冷卻循環(huán)系統(tǒng)：水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃，給設(shè)備相關(guān)需水冷部件提供穩(wěn)定的制冷水
