HMDS烘箱，太陽能電池片HMDS烘箱簡介
光伏刻蝕是太陽能電池制造過程中的重要環節，下面是一般光伏刻蝕工藝的流程：
1. 表面準備：可以采用清洗溶液、酸洗、超聲波清洗等方式。
2. 光罩/掩膜涂覆：在光伏刻蝕中，需要使用光罩或掩膜來保護不需要刻蝕的區域。光
3. 刻蝕：具體刻蝕條件（如刻蝕液的濃度、溫度、刻蝕時間等）會根據電池設計和制造要求進行控制。
4. 刻蝕后處理：后處理可能包括漂洗、清洗、脫罩等步驟，以確保電池片的質量和可靠性。
5. 光伏電池制造其他工藝：刻蝕只是太陽能電池制造的一部分，之后還需要進行光伏電池的其他工藝。
HMDS烘箱，太陽能電池片HMDS烘箱用途
光刻蝕刻加工的基本原理：
1. 光敏材料涂覆：首先，在待加工的基底表面涂覆一層光敏感材料（例如光刻膠）。該材料對于特定波長的光會發生化學或物理變化。涂覆的光敏材料形成了一個稱為“光刻膠層”的薄膜。
2. 光罩設計和準備
3. 曝光
4. 圖案形成
5. 刻蝕。
然而在光敏材料涂覆前需要將電池片基底做疏水性處理，該處理工藝需要借助HMDS增粘劑。一般通過氣相沉積的方法將HMDS處理在襯底表面。該設備為上海雋思HMDS烘箱
HMDS烘箱的性能：
溫度范圍：RT+10-200℃
真空度：≤1torr
操作界面：人機界面
工藝編輯：可儲存5個配方
氣體：N2進氣閥，自動控制
容積：定制
產品兼容性：2~12寸晶圓及碎片、方片等
適用行業：MEMS、太陽能、電池片、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導體材料。
