一、應用領域:
該設備可沉積單金屬、合金、及多種介質膜,多層膜;主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜(耐磨、防腐、導電膜、絕緣膜等)的研發和小批生產。
二、性能參數
1. Φ1000x700水冷真空腔體,側開門,樣品架公自轉;
2. 頂部和側面布置有濺射靶位8個;
3. 6″直流靶6只,每只各配3KW直流電源1套;
4. 6″射頻靶2只,各配1.5KW射頻電源1套;
5. 系統配考夫曼離子源用于工件清洗;
6. 腔室可加熱,加熱溫度300℃。
7. 極限真空:5x10-4Pa。