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廣電計量檢測集團股份有限公司

AX-7670 0190-47768 AMAT HDP CVD MKS 反應氣體發(fā)生器 消除了加工過程中對氬氣的需求

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱廈門雄霸電子商務有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/11/24 11:45:05
  • 訪問次數(shù)197
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廈門雄霸電子商務有限公司漳州分公司主營(DCS系統(tǒng))(機器人系統(tǒng))(大型伺服控制系統(tǒng))模塊備件的銷售。公司經(jīng)營范圍:分布式控制系統(tǒng)(DCS)、可編程序控制器(PLC).MOTOROLA MVME工業(yè)用模組、工業(yè)控制通訊轉(zhuǎn)換器(Anybus)、遠端輸出/輸入模塊(RTU)、工業(yè)電腦(IPC)、工業(yè)用低頻螢幕(IPC)、人機界面SCSI(50、68、80Pin)AnyBus(Gateway)。廈門雄霸從事工控行業(yè)十幾年,現(xiàn)已成一家性的工業(yè)自動化備件及零部件的銷售企業(yè)。我司能直接從境外進貨、能夠提供不同國別、廠商的設(shè)備以及備件、解決您多處尋找的麻煩或?qū)Ξa(chǎn)品質(zhì)量問題的擔心等、在價格上我們有很大的優(yōu)勢。貨源優(yōu)勢價格優(yōu)勢售后服務直接從境外進貨、能夠提供不同國別、廠商的只要您誠心想購買,多少價格我們都可以提供所有配件的]保修期均為3-6個月,質(zhì)設(shè)備以及備件給您。保1年。
ASTRONi反應氣體發(fā)生器基于的低場環(huán)形等離子體技術(shù),可提供更大范圍的工作壓力,同時保持較高的輸入氣體解離率。高可靠性、經(jīng)過現(xiàn)場驗證的設(shè)計架構(gòu)結(jié)合了電源、控制模塊和等離子體室。其結(jié)果是一個緊湊的,蓋子安裝的單位,這是很容易集成。
AX-7670 0190-47768 AMAT HDP CVD MKS 反應氣體發(fā)生器 消除了加工過程中對氬氣的需求 產(chǎn)品信息

立即聯(lián)系何經(jīng)理:AX--47768 AMAT HDP CVD MKS 反應氣體發(fā)生器 消除了加工過程中對氬氣的需求

ASTRON®i反應氣體發(fā)生器專為提高流動能力和工藝靈活性而設(shè)計。ASTRONi反應氣體發(fā)生器消除了加工過程中對氬氣的需求,允許選擇與現(xiàn)有工藝氣體兼容的點火氣體,并增加了總體流量,減少了加工時間,提高了吞吐量。
ASTRONi反應氣體發(fā)生器基于的低場環(huán)形等離子體技術(shù),可提供更大范圍的工作壓力,同時保持較高的輸入氣體解離率。高可靠性、經(jīng)過現(xiàn)場驗證的設(shè)計架構(gòu)結(jié)合了電源、控制模塊和等離子體室。其結(jié)果是一個緊湊的,蓋子安裝的單位,這是很容易集成。
ASTRONi反應氣體發(fā)生器的主要應用是作為反應氣體的遠程源,用于清除CVD或FPD工藝室內(nèi)壁上不需要的沉積物,這些工藝室需要更大的工藝靈活性。通過產(chǎn)生氟原子,與室內(nèi)的廢物沉積發(fā)生反應,形成新的氣體,這些氣體很容易被洗滌,以盡量減少對環(huán)境的影響。此外,與原位射頻方法相比,遠程源減少了對工藝室的磨損。

?操作過程中不需要氬氣
?增加流量減少腔室清潔時間
?連續(xù)運行(CW),不受占空比限制,支持大型腔室和/或長時間清潔
?兼容200mm和300mm腔室

選擇點火氣體的靈活性和較低的CoO
?緊湊,蓋子安裝設(shè)計,便于集成
?在寬壓力范圍內(nèi)的高解離率,更強大的操作與室清潔硬件配置

AX--47768 AMAT HDP CVD

The ASTRON®i reactive gas generator is designed for increased flow capability and process flexibility. The ASTRONi reactive gas generator eliminates the need for argon during processing, allows a choice of ignition gas compatible with existing process gases, and increases overall flow for decreased processing time and increased throughput.
Based on patented Low-Field-Toroidal plasma technology, the ASTRONi reactive gas generator provides a broader range of operating pressures while maintaining a high input gas dissociation rate. The high reliability, field-proven design architecture combines the power source, control module, and plasma chamber. The result is a compact, lid-mountable unit, which is easy to integrate.
The primary application for the ASTRONi reactive gas generator is as a remote source for reactive gas to clean undesired deposits from interior walls of CVD or FPD process chambers where greater process flexibility is required. By generating atomic fluorine that reacts with waste deposits in the chamber, new gases are formed that are readily scrubbed to minimize the environmental impact. In addition, the remote source reduces wear and tear on the process chamber compared to in situ RF methods.

? No Argon required during operation
? Increased flow reduces chamber clean time
? Continuous operation (CW), not duty cycle limited, to support large chambers and/or long clean times
? Compatible with 200mm and 300mm chambers

Choice of ignition gases for flexibility and lower CoO
? Compact, lid-mountable design, for easy integration
? High dissociation rate over broad pressure range for more robust operation with chamber clean hardware configurations

如果您需要任何東西我們能夠解決您的缺陷零件或更換,

歡迎垂詢

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這些范圍從三十年到。

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我們目前庫存超過 20,000,000 件商品,建議零售價超過 2 億美元。

雄霸自動化有限公司在獲得優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品的同時節(jié)省了大量成本。

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RELIANCE 805405-1R 15A AB 1756-PH75 PFEIFFER CMR361
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