半導體材料是常用的原料，尤其是在電子行業高速發展的今天。半導體材料超純水設備采用RO、EDI與精混床除鹽水處理工藝，技術*可靠自動化程度高。設備重要的就是出水穩定，水質的電阻率達到18.2 MΩ.cm。

　　半導體材料超純水設備配置

　　半導體材料超純水設備的配置包括四部分，分別是前處理、預處理、主機系統以及后處理消毒裝置。主要包括原水加壓泵、多介質過濾器、活性炭過濾器、軟水器、保安過濾器。主機系統是雙級反滲透設備、EDI主機系統，消毒裝置是臭氧發生器。

　　半導體材料超純水設備優勢

　　半導體材料超純水設備優勢在于其的配置，主要是以反滲透和電去離子裝置為主機。這是當今*環保制取超純水的工藝。這種工藝不需要要用酸堿進行再生便可連續制取，不會對環境造成二次污染。

　　半導體材料超純水設備特點

　　半導體材料超純水設備的特點就是實用性能強可以根據客戶的實際而定。EDI系統有相當處理水量，采用積木式結構可依據場地的高度靈活地構造。是采用模塊化的設計，在生產工作時能方便維護。

　　電子科技的發展代表著整體技術的發展水平，半導體材料的生產技術要求很高。半導體材料超純水設備是我們超純水設備廠家的自主研發，結合了國內外的*技術。設備的自動化智能化程度高，做到了基本無污染清潔生產的要求。