設備用途:
利用電阻加熱產生熱能,將待成膜的物質置于真空中進行蒸發或升華,使之在基片表面析出的過程。用于制備各類金屬膜等,廣泛應用千大專院校、科研機構的科研及小批量的生產。
主要技術指標 | |
真空指標 | 極限真空度:≤7x10-5Pa (經烘烤除氣后); 系統真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S; 系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣后,再開始抽氣,40分鐘可達到3x10-3 Pa; 停泵關機12小時后真空度:≤20Pa; |
真空室 | 真空室尺寸:Φ300 X 365mm, 上開蓋結構,上面焊有觀察窗,放氣閥、膜厚儀等法蘭接口。選用優質不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面特殊工藝處理。內壁掛防污板。 |
樣品 | 樣品盤上可承裝Φ150mm以下樣品 ,樣品盤轉速10—60轉/分, 轉速連續可調。電動控制擋板一套; |
真空獲得及測量 | 分子泵+機械泵,數顯復合真空計(皮拉尼規+電離規) |
蒸發舟 | 兩個蒸發舟,10CC |
蒸發電源 | 3KW,帶有微調功能 |
控制系統 | 手動 |
工作壓力控制系統 | 手動 |
水冷機組 | 可選 |
石英晶振膜厚儀 | 可選 |