HORIBA等離子體分析飛行時間質譜儀原理：
等離子體分析飛行時間質譜儀結合了輝光放電等離子體的濺射速度和時間飛行質譜的快速以及高靈敏度，實現了高分辨率和高靈敏度條件下固體材料的快速化學深度剖析。

HORIBA等離子體分析飛行時間質譜儀重點應用領域：

●  摻雜分析（半導體、光電子、太陽能光伏、傳感器、固態光源）

●  表面和整體污染鑒定（PVD 鍍層、摩擦層、電氣鍍層、光學鍍層、磁性鍍層）

●  腐蝕科學和技術（示蹤物、標記監測、同位素標記）

●  界面監測

技術參數：

●  采集速率：每30μs一張全質譜
●  質量分辨率：選擇高分辨率模式時，在m/z 208可達 5000
●  動態范圍：107
●  質量準確度：40 ppm
●  靈敏度：103 cps/ppm
●  深度分辨率：nm
●  正負離子模式
●  4個離子的靈活消隱功能
●  簡單易用的水平樣品裝載

產品特點：
●  樣品分析快速無預處理：無需超高壓腔
●  適用于各種材料及鍍層分析
●  全質量覆蓋：可提供從 H 到U元素的完整質譜和分子信息，包括同位素監測
●  *3D 數據，脈沖射頻模式（）
●  高深度分辨率：測試薄層可至 1nm
●  薄層到厚層：層厚可達 100μm
●  無需校準的半定量分析：濺射和電離過程分離，使得基體效應zui小化