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廣電計量檢測集團股份有限公司

實驗型磁控濺射鍍膜機(直流/中頻/射頻/離子源)

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱廣東匯成真空科技股份有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/11/2 12:25:50
  • 訪問次數214
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廣東匯成真空科技股份有限公司是一家面向的真空應用解決方案提供商,研發、生產和銷售各類光學鍍膜設備、功能性薄膜涂層設備、裝飾涂層設備、卷繞鍍膜設備、汽配鍍膜設備、連續式磁控濺射鍍膜生產線、超高真空系統等真空設備、半導體設備、電子生產設備、光電設備、光伏設備、動力電池設備及產品相關配件的國家企業,專注設備與產品的相關制造工藝和應用技術、控制軟件、工藝流程控制軟件及相關生產自動化軟件的研發、應用,并提供技術轉讓、技術咨詢和技術服務。 公司成立于2006年,目前擁有在職員工近300人,其中高、中級以上專業技術職稱人員80余人,公司聘請了國內真空行業專家、教授和高級工程師,專門指導和負責公司新產品的研發與設計,取得發明、外觀設計、實用新型61項,版權著作權6項。公司擁有標準化生產車間,大型加工中心配備500噸液壓沖壓機、退火爐、小件機加工中心、液壓擺式剪板機、數控火焰切割機床、數控水切割平臺、自動堆焊不銹鋼裝置、數控加工中心,研發中心配備百格劃痕儀、鉛筆硬度計、恒溫恒濕箱、分光光度計、鹽霧測試儀、金相顯微鏡、線性磨耗儀、硬度計、膜厚測試儀。
該設備是利用真空磁控濺射鍍膜方式,可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等,沉積的薄膜具有良好的均勻性、附著力,該設備具有濺射速率快、基片升溫低、加熱穩定等特點。
實驗型磁控濺射鍍膜機(直流/中頻/射頻/離子源) 產品信息

實驗型磁控濺射鍍膜機(直流/中頻/射頻/離子源)利用真空磁控濺射鍍膜方式,可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等,沉積的薄膜具有良好的均勻性、附著力,該設備具有濺射速率快、基片升溫低、加熱穩定等特點。適用于任意底色的塑料,陶瓷、樹脂工藝品,玻璃等經真空鍍膜后皆可鍍成金、銀、七彩、紅、紫、藍、灰、黑等多種鮮艷顏色,具有提高產品檔次,外觀更顯華貴作用。

應用領域:實驗型磁控濺射鍍膜機(直流/中頻/射頻/離子源)實驗用真空鍍膜機主要用于科研、教學、電子元件、及涂料生產等行業的表面表面鍍膜。

設備特點:實驗型磁控濺射鍍膜機(直流/中頻/射頻/離子源)具有外形美觀、結構緊湊、性能多樣、操作簡單可靠、耗電量低的特點。可實現蒸發鍍膜、磁控濺射鍍膜、電弧鍍膜等工藝。可進行手動、半自動、全自動控制.有多種尺寸型號可供選擇。

設備型號 HCLB-500
真空室尺寸 Φ500×H600mm
制膜種類 半透明膜、金、銀、紅、藍、綠、灰、黑、七彩等多種顏色
電源類型 電阻加熱鎢絲蒸發變壓器電源、高壓離子轟擊電源、可控硅電源
真空室結構 立式側門結構,后置抽氣系統
真空系統 分子泵+直聯旋片泵準無油真空系統
極限真空 優于5.0×10-5Pa(如需更高真空度可配進口真空泵組)
基片臺尺寸 尺寸Φ120mm
基片烘烤溫度 室溫~500℃,可調可控(PID控溫)(可選擇水冷機基片臺)(更高烘烤溫度可定制)
基片運動方式 自轉,轉速0-20/分可調可控
膜厚不均勻性 ≤±(1.55.0%
濺射靶 磁控靶2支,預留2個靶位/2個電弧靶位
電源 直流電源/雙極脈沖中頻電源/射頻電源可選,數量可選
報警及保護系統 對泵、靶、電極等缺水,過流過壓,斷路等異常情況進行報警并執行相應保護措施;完善的邏輯程序互鎖保護系統
選購件 蒸發電弧+電弧電源、負偏壓電源、循環水機、膜厚控制系統、進口部件等
抽氣時間 空載大氣抽至5×10-2pa小于6分鐘
工件旋轉方式 6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速
控制方式 手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC
備注 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做

主要應用于科研、教學、電子元件、及涂料生產等行業。

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