使用超純水設備的好處

產品特點：

1.去除懸浮顆粒和沉淀  2.除去溶解性離子  3.去除氣體  4.防止膜堵塞，保護RO膜  5.可降低能耗，節約資源

超濾系統：據原水水質、回收率及產水量等因素確定膜組件的組合方式

產品特點：

1.去除溶解性離子  2.去除微生物和病毒  3.提高水質   4.保障產水的穩定性   5.降低企業生產成本

產品特點：

EDI的作用就是通過除去電解質(包括弱電解質)的過程，將水的電阻率從0.05～1.0MΩ·cm提高到5～16MΩ·cm

產品特點：

無化學析出的核子級樹脂，去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質，使水質達到18MΩ·cm以上

產品特點：

終端供水泵能夠實現不降壓設備切換，可選擇恒壓、恒流控制方式

超純水可以用于清洗半導體顯像管生產過程中的各個環節，包括晶圓清洗、蝕刻、沉積和電鍍等。它能夠去除雜質、顆粒和化學物質，確保在制造過程中的高純度和無污染

半導體行業對生產用水的要求非常嚴格，以下是一些常見的半導體行業生產用水標準：

1. 電阻率：通常要求超過18兆歐姆·厘米（MΩ·cm），有時甚至要求更高的值。
2. 離子含量：各種離子的含量都要限制在極低的濃度，例如陽離子和陰離子都要控制在納克級別以下。
3. 顆粒物含量：通常要求顆粒物濃度小于1個每升。
4. 高純水（HPW）：高純水是指相對較高純度但不同于超純水的水質標準。常見的高純水標準包括：
5. 電阻率：通常要求在2-10兆歐姆·厘米（MΩ·cm）范圍內。
6. 離子含量：各種離子的含量也需要在較低的水平上進行控制，但比超純水標準寬松一些。
7. 顆粒物含量：通常要求顆粒物濃度小于1個每升。

可根據客戶需求定制，出水達行業用水標準