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ADEPT 1010 動態二次離子質譜儀

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱上海德竹芯源科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號ADEPT 1010
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/9/22 10:36:50
  • 訪問次數303
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上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領域的設備銷售、系統集成、設備國產化的公司。主要為高校、研究所、中試量產線及晶圓FAB廠提供半導體工藝設備、檢測設備、封裝設備、測試設備。目前公司已成為國內少數幾家專業提供半導體工藝、檢測、封裝、測試整體解決方案的企業。公司主要成員為復旦大學、上海微系統所等半導體相關專業博士,擁有一支經驗豐富、技術過硬的團隊。能夠出色地完成售前售中、售后的服務。目前公司已與眾多國際半導體設備企業建立了良好的合作關系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等),致力于根據用戶的科研方向和量產的器件類別提供相應的全套設備選型和工藝整體解決方案。
無線電綜合測試儀
動態二次離子質譜儀(D-SIMS)是使用一次離子束(通常是Cs源)轟擊樣品表面,而產生二次離子,然后用質譜分析儀分析二次離子的質荷比(m/q),從而得知元素在樣品中的深度分布,是分析半導體摻雜和離子注入的有力的工具。
ADEPT 1010 動態二次離子質譜儀 產品信息

優勢

ULVAC-PHI 新設計的四極桿-二次離子質譜儀 ADEPT 1010,在原有的 PHI 6300 和 PHI 6600 的基礎上,改善了離子光學系統,是在一次離子能量低至 250eV 時,仍保持有效的濺射束流的動態二次離子質譜系統(D-SIMS)。


特點

大束流低能量離子槍設計,提高了深度分辨率

高性能離子光學系統,改善了二次離子傳輸效率,在提高分析效率的同時又提高了檢測靈敏度

高精度全自動 5 軸樣品操控臺

不同方向進入檢測器的二次離子,均可被高靈敏地收集檢測

應用實例分析

采用一次離子源 Cs 在加速 5kV 束流為 100nA 的條件下,分析 GaAs 中注入的 H,C,O 元素。可以看到 H 檢測限值 7.1 × 1016 atm/cm3O 檢測限值 4.4 × 1015 atm/cm3,C 檢測限值 2.0 × 1015 atm/cm3


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