X射線光電子能譜儀（XPS）
ESCA+高性能X射線光電子能譜儀
ESCA+的設(shè)計(jì)結(jié)合了簡(jiǎn)便的操作、高通量和*的ESCA技術(shù)性能。靈活的“雙束”離子源和電子源，使得用戶可以很輕松的進(jìn)行復(fù)雜的電荷中和以及深度剖析等分析。
Omicron產(chǎn)品所的模塊化設(shè)計(jì)使系統(tǒng)擴(kuò)展和升級(jí)非常簡(jiǎn)便。可選項(xiàng)包括原位升降溫、AES、UPS、SAM、樣品預(yù)處理……，即使是常規(guī)XPS系統(tǒng)無(wú)法實(shí)現(xiàn)的要求，例如TPD（程序升溫脫附實(shí)驗(yàn)）、高壓XPS、高壓催化和復(fù)雜樣品制備等，都可以完整的集成到ESCA+系統(tǒng)中。結(jié)合了靈活性、高性能和*的控制系統(tǒng)，使ESCA+是任何實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行ESCA研究的理想選擇。
ESCA+特點(diǎn)：
•優(yōu)秀的能量分辨率與計(jì)數(shù)率
•微區(qū)XPS分析和成像XPS功能
•高效的“雙束”電荷中和技術(shù)
•針對(duì)快速深度剖析、角分辨XPS進(jìn)行優(yōu)化
•全自動(dòng)的系統(tǒng)控制軟件
•強(qiáng)大的分析軟件
•靈活的配置和諸多的選項(xiàng)
Si 2p 3/2和2p 1/2峰，半高寬FWHM達(dá)到0.37 eV Si樣品的角分辨XPS結(jié)果 復(fù)雜陶瓷樣品中各種元素的定量分析
NanoESCA
全新的NanoESCA系統(tǒng)是專門針對(duì)成像XPS分析（iXPS）設(shè)計(jì)的系統(tǒng)。其特點(diǎn)包括采用了具有大接收角的光發(fā)射電子顯微鏡（PEEM）的電子透鏡系統(tǒng)和含誤差修正的能量分析器等特殊設(shè)計(jì)。后者結(jié)合了兩個(gè)半球形電子能量分析器，該設(shè)計(jì)已經(jīng)申請(qǐng)，并獲得2007年國(guó)際R&D 100產(chǎn)品研發(fā)大獎(jiǎng)。 系統(tǒng)不但可以通過(guò)對(duì)動(dòng)能高達(dá)1.6 keV的光電子進(jìn)行能量篩選，從而獲得樣品表面化學(xué)組成差異的圖像（iXPS模式），亦可以在PEEM模式中獲得空間分辨率達(dá)40 nm的二次電子像。
系統(tǒng)的另一個(gè)顯著特征是既可以配合實(shí)驗(yàn)室光源（Al Ka，He I等），也可以與同步輻射光源相結(jié)合。
目前在Bessy II上所獲得的iXPS模式水平方向分辨率已達(dá)到100 nm水平。NanoESCA的納米級(jí)空間分辨率遠(yuǎn)遠(yuǎn)于目前掃描ESCA 3-10微米的水平分辨率，而與實(shí)驗(yàn)室單色X光源相結(jié)合所獲得的水平分辨率也已達(dá)到650nm。
GaAs-AlGaAs異質(zhì)結(jié)剖面的成像XPS圖，其中可以分辨出的最細(xì)的線條寬度小于100 nm
采用Al K a光源得到的SiO2表面Au的Chessy樣品的Au 4f峰成像XPS結(jié)果，圖中Au方格的寬度為1μm。
Al0.98Sn0.02多晶樣品中Al 2p能級(jí)的成像XPS圖像。40μm x 40μm
