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廣電計(jì)量檢測(cè)集團(tuán)股份有限公司

HG-ES 光譜橢偏儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱中工實(shí)科(北京)科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/9/2 18:37:51
  • 訪問次數(shù)225
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中工實(shí)科(北京)科技有限公司的核心專業(yè)技術(shù)核心團(tuán)隊(duì)成員從1995年開始和高校科研院所合作即專注于研發(fā)和生產(chǎn)積分球,是中國時(shí)間長、專業(yè)高技術(shù)水平高的光學(xué)積分球的生產(chǎn)廠商,隨著市場(chǎng)需求不斷擴(kuò)大和對(duì)品質(zhì)的更高要求以及新興應(yīng)用領(lǐng)域的不斷擴(kuò)展,于2014年成立公司,開始標(biāo)準(zhǔn)化的專業(yè)民族品牌建設(shè)之路,中工實(shí)科長期專業(yè)的積累和老一輩研究工作者的傳承意識(shí)并在吸收設(shè)備經(jīng)驗(yàn)的基礎(chǔ)上,凝聚了一批創(chuàng)新務(wù)實(shí)、精益求精的具備工匠精神的高素質(zhì)人才,成功開發(fā)出了紫外、可見、紅外等寬光譜高反射率的新材料配方和的*生產(chǎn)工藝,研發(fā)制造出從幾個(gè)mm的微型積分球到幾米的大型積分球等各種規(guī)格,并搭建不同的光機(jī)電軟科學(xué)儀器設(shè)備系統(tǒng)和解決方案,滿足不同行業(yè)領(lǐng)域計(jì)量檢測(cè)校準(zhǔn)需求,專業(yè)的加工設(shè)備和檢測(cè)儀器加上標(biāo)準(zhǔn)化的管理理念,使得中工實(shí)科成為國內(nèi)積分球,產(chǎn)品品質(zhì)和*的測(cè)試方法以及設(shè)計(jì)理念,水平*。目前中工實(shí)科研制的積分球和新型工藝的高漫反射涂料已經(jīng)在國防、科研、大學(xué)等廣泛應(yīng)用,可以用于測(cè)量光源、光學(xué)材料、顏色色度以及航天、環(huán)境、醫(yī)學(xué)、激光技術(shù)等眾多的光學(xué)測(cè)試和光譜分析,中工實(shí)科積分球在光學(xué)分析、照明電器測(cè)試、LED行業(yè)、化學(xué)、環(huán)保、水質(zhì)分析等多個(gè)科研和工業(yè)領(lǐng)域是有優(yōu)勢(shì)且用途廣范的光學(xué)儀器。中工實(shí)科不斷擴(kuò)展延申研究,利用的新型光子晶體顆粒和薄膜技術(shù),研制出新型聚光反射腔體,適用于小功率的醫(yī)療激光器,半導(dǎo)體激光器等。中工實(shí)科全體同仁在廣大客戶的支持和幫助下,勵(lì)精圖治,憑借雄厚的經(jīng)濟(jì)和技術(shù)實(shí)力,經(jīng)過長期的沉淀積累,已經(jīng)擁有眾多*設(shè)備,形成了從旋壓鑄造、激光切割和線切割、鈑金沖壓、加工中心精加工到噴涂噴塑、裝配等完整的標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)線,滿足不同領(lǐng)域不同應(yīng)用方向的需求,向國際積分球品牌不斷邁進(jìn)。 中工實(shí)科全體同仁始終秉持客戶至上的服務(wù)宗旨,在各應(yīng)用領(lǐng)域都締造了良好的客群關(guān)系,我們期待更多的新老用戶加盟合作,共同以科技強(qiáng)國為己任,堅(jiān)持科技創(chuàng)新和工匠精神,繼續(xù)縱深發(fā)展,服務(wù)客戶,服務(wù)社會(huì),造福人類!
微光照度計(jì)
產(chǎn)品信息:HG-ES光譜橢偏儀(光伏專用/科研通用兩種應(yīng)用選擇)HG-ES光譜橢偏儀是針對(duì)光伏太陽能電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的高性能光譜橢偏儀
HG-ES 光譜橢偏儀 產(chǎn)品信息



產(chǎn)品信息:

HG-ES 光譜橢偏儀

(光伏專用/科研通用兩種應(yīng)用選擇)

HG-ES光譜橢偏儀是針對(duì)光伏太陽能電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的高性能光譜橢偏儀。

HG-ES光譜橢偏儀用于測(cè)量和分析光伏領(lǐng)域中多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如,厚度)和物理參數(shù)(如,折射率n、消光系數(shù)k),典型樣品包括:絨面單晶和多晶太陽電池上的單層減反膜(如SiNx,Si02,Ti02,A1203等)和多層減反膜(如,SiNx/Si02,SiNx2/SiNx1,SiNx/A1203等),以及薄膜太陽電池中的多層納米薄膜。

特點(diǎn):

粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測(cè)量

晶體硅多層減反膜檢測(cè)

秒級(jí)的快速測(cè)量

一鍵式儀器操作

高品質(zhì)相位補(bǔ)償

氙燈光源強(qiáng)度優(yōu)化系統(tǒng)

退偏糾正

自動(dòng)可變?nèi)肷浣嵌?/p>

背照式CCD光譜采集系統(tǒng)

自動(dòng)xYZ載物臺(tái)、真空吸附

應(yīng)用:

HG-ES光譜橢偏儀的應(yīng)用覆蓋了傳統(tǒng)光譜橢偏儀所測(cè)量的光面基底上的單層和多層納米薄膜,典型應(yīng)用包括:半導(dǎo)體(如:介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜,激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等)、平板顯示

(TFT、0LED、等離子顯示板、柔性顯示板等)、功能性涂料:(增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層,以及高分子、油類、A1203表面鍍層和處理等)、生物和化學(xué)工程等(有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理、液體等)。

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