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廣電計量檢測集團股份有限公司

HJY-LABRAM HR顯微拉曼光譜儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱成都光納科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地成都市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2024/5/6 9:08:31
  • 訪問次數(shù)216
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成都光納科技有限公司是一家專業(yè)從事國外光電科研儀器代理銷售,咨詢服務(wù)的高科技公司。我司與國際上PHOTRON、PCO等的光電技術(shù)廠家有著緊密的聯(lián)系,為國內(nèi)光電研究和應(yīng)用領(lǐng)域的科研以及工業(yè)用戶提供產(chǎn)品及咨詢服務(wù),并針對用戶的實際應(yīng)用需求給出******的解決方案。  我們******于為用戶提供的產(chǎn)品,******的信息以及******的服務(wù)。所提供的產(chǎn)品包括科學(xué)級CMOS相機、科學(xué)級CCD相機、高速相機、超高速攝像機、分幅相機、像增強器、激光器、光柵光譜儀以及光學(xué)元件濾光片等產(chǎn)品。主要代理以下品牌產(chǎn)品:德國PCO公司、日本Photron公司、法國PHOTONIS、日本HORIBA集團、德國GOM、英國SI、英國IVV等。 我公司秉承“專業(yè),專注、誠信,高效”的原則,竭誠為國內(nèi)廣大用戶提供專業(yè)咨詢以及快捷、******、完善的技術(shù)支持服務(wù)。
LabRamHR系統(tǒng)由于具有超高光譜分辨率和的寬波段測量能力而體現(xiàn)出的靈活性和*的性能
HJY-LABRAM HR顯微拉曼光譜儀 產(chǎn)品信息
LabRam HR系統(tǒng)由于具有超高光譜分辨率和的寬波段測量能力而體現(xiàn)出的靈活性和*的性能。

它是一款易于操作和穩(wěn)定性高的集成系統(tǒng),在高、中甚至低光譜分辨率下的拉曼測量都有很好的重復(fù)性。高光譜分辨模式對峰位的分析尤為重要,例如:相(晶型 /無定型),蛋白質(zhì),氫鍵和弱的鍵合作用的表征,以及半導(dǎo)體應(yīng)力測量等,實際上,對于任何需要表征拉曼譜峰的峰位和峰形的應(yīng)用都十分重要。需用 0.3cm -1到 1cm -1精度進行譜峰分析的樣品尤其適合使用高分辨率模式。它的雙重功能還能實現(xiàn)在同一臺儀器上從事更多常規(guī)拉曼分析,甚至更寬波段的光致微區(qū)熒光或發(fā)光分析產(chǎn)品特點

  • 的高,中和低光譜分辨率多道光譜探測模式
  • 適于拉曼,熒光,發(fā)光測量
  • 真共焦- ******的空間分辨率和更快速清晰的拉曼圖像
  • 可配多個激發(fā)波長,從可見到近紅外(可擴展至近紅外和紫外)。
  • 超高的穩(wěn)定性
  • 1024像元的大尺寸CCD 芯片-還有多種芯片可供選擇。
  • 的notch 濾光片角度可調(diào)技術(shù)。
  • 自動軟件操作,包括外部制冷臺。
  • 可擴展配置(******個輸出口,附加探測選項, 近紅外和紫外).
  • 超高的穩(wěn)定性
  • 1024 像元的大尺寸CCD 芯片-還有多種芯片可供選擇。
  • 的notch 濾光片角度可調(diào)技術(shù)。
  • 自動軟件操作,包括外部制冷臺。
  • 可擴展配置(******個輸出口,附加探測選項,開放式顯微鏡).
  • 快速拉曼成像模式.

主要參數(shù)

  • 光譜范圍:200-2100 nm
  • 焦長:800 mm
  • 光譜儀:光譜色散平場輸出,可使用大尺寸CCD探測器
  • 激光功率控制:多級激光功率衰減片
  • 探測器:研究級大芯片尺寸空冷CCD
可選附件
  • 開放式顯微鏡/倒置顯微鏡
  • 高精度三維平臺
  • 冷/熱臺及其它樣品臺
  • 多種快速成像附件
  • 光纖探頭
  •  偏振附件
  •  透射測試模塊
  •  超低波數(shù)附件
主要應(yīng)用生命科學(xué):疾病診斷、皮膚分析、細胞篩選、化妝品、微生物、蛋白質(zhì)研究等。  藥物研究:拉曼光譜可幫助藥物研究人員和質(zhì)量控制人員更深入的了解原材料及產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。如:活性藥物成分(API)、賦形劑成像和表征、晶形鑒定、相態(tài)檢測等。材料研究:石墨烯和碳納米管、聚合物和單體、無機物和金屬氧化物、陶瓷、鍍層和薄膜、太陽能和光伏、催化劑等。半導(dǎo)體:半導(dǎo)體材料的拉曼和光致發(fā)光(PL)可為專家提供成分組成及各成分屬性的重要信息。如壓力/張力檢測、合金成分、超薄涂層表征、刻蝕芯片結(jié)構(gòu)成像、帶隙分析等。 
 
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