蔡司Gemini電子光學鏡筒具有以下三個主要特點
?蔡司Gemini物鏡的設計結(jié)合了靜電場和磁場，在提高其電子光學性能的同時將它們對樣品的影響降至更低。無漏磁物鏡設計，可以對如磁性材料等高挑戰(zhàn)的樣品同樣地進行高品質(zhì)成像；
?蔡司Gemini電子束推進器技術，讓電子束經(jīng)過加速后以高電壓通過鏡筒，最終再減速至設定電壓后進入樣品倉，很大程度地減小電子束的像差，確保在非常低的加速電壓下仍可獲得小束斑和高信噪比；
?蔡司Gemini 鏡筒的設計理念將Inlens二次電子（SE）和背散射電子（BSE）探測器均放置在鏡筒內(nèi)正光軸上，使兩者均具有更高的信號采集效率且可以同時成像，有效的縮短了獲取圖像的時間，更好地提高工作效率。
蔡司Gemini技術優(yōu)勢能為您提供以下便利：
?經(jīng)校準后的鏡筒具有長期的穩(wěn)定性，您在日常使用時只需要簡易地設定基本的參數(shù)，如加速電壓、探針電流等；
?無漏磁的物鏡設計，可對包括磁性樣品在內(nèi)的各類型樣品進行無畸變、高分辨率的成像；
?Inlens二次電子探測器具有高效的SE 1信號采集效率，給您呈現(xiàn)來自樣品極表面的真實形貌圖像；
?鏡筒內(nèi)能量過濾背散射探測器以其創(chuàng)新的設計理念，使您在低電壓下可獲得高分辨率、高襯度、以及更真實的樣品材料襯度圖像。
