主要特點：
- 大抽速真空系統，即插即用快捷方便；
- 最多5個獨立磁控濺射靶位可輕松切換功能，快速制作多層金屬和反應介質膜；
- 預設參數全自動進料和鍍膜沉積無需人工干預；
- 自動樣品裝載系統減少污染和無效參雜并提高鍍膜效率。
- 配備直流和射頻源，可實現多種膜層工藝要求。
- 選配離子束輔助沉積系統，提高膜層致密性和附著力。
應用領域：
- 金屬和介電膜
- 薄膜傳感器的制造
- 光學元件
- 納米與微電子
- 太陽能電池
主要功能配置說明：
- Φ500mm*450mm(h)圓形不銹鋼腔室。
- 700L/s渦輪分子泵+雙級旋片泵真空泵組。
- 全量程復合真空計，自動控制不同工藝壓力。
- 電動壓控插板閥全程壓力自動控制。
- 3英寸濺射靶，可同時濺射多種材料。
- 配準備DC電源和RF電源更利于濺射多種金屬和介質膜層。
- 3路MFC精密氣體流量控制系統，便于鍍制多種反應膜層。
- 石英晶體監測系統可實時監控多層鍍膜厚度和工藝過程。
- 斜拉伸縮式觸控屏可預設控制沉積過程和快速數據輸入。
- 自動進料系統更便于預制樣品和過程控制。
- 一鍵式全自動鍍膜系統，無需人工干預，便于過程控制。
- 精密溫控系統和基片前后加熱裝置可精確控制控基片＞800°C。
- 伸縮式基片掛架，可輕松調節濺射距離和切換公自轉模式。
- 自動腔體外包圍環繞冷卻系統，避免高溫鍍膜時腔室壁溫度過高。
- 更多PVD系統工藝說明可查閱本站點解決方案目錄：/jjfa
鑫鐳真空專業為科研項目和企業制作用于薄膜材料實驗的小型多靶濺射PVD系統，提供各種真空鍍膜工藝設備搭配定制、鍍膜機機的全系統整合、升級和專用系統定制以及真空設備整機維修、安裝等服務。質量可靠，提供多個案列參考。
