超純水系統設備主要用途：
微電子產品生產用高純水，半導體、顯象管制造業用超純水，集成電路板生產清洗用超純水，蓄電池、鋰電池、太陽能電池、干電池等生產用水，本設備主要采用反滲透和EDI+拋光混床技術制備超純水。
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、大規模集成電路需用大量的超純水，超純水清洗半成品、成品，集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，以區分不同水質。
超純水系統設備有如下優點：
①水質穩定;
②容易實現全自動控制;
③不會因ZS而停機;
④不需化學ZS;
⑤運行費用低;
⑥占地面積小;
⑦無污水排放;
為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。
在工藝設計上，取達到國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床系統(EDI電除鹽系統)等。
系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性。