產品簡介:高真空單室熱蒸發系統用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、 半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應用 于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。
產品型號 | 高真空單室熱蒸發系統 |
主要特點 | 系統主要由真空室系統蒸發室、蒸發源系統、樣品臺系統、 真空抽氣及測量系統、氣路系統、控制系統、膜厚測試 系統、上蓋液壓開啟機構、電控系統組成。 |
技術參數 | 1、極限真空度5×10-5Pa,系統漏率:1×10-7PaL/S; 恢復真空時間:40分鐘可達6.6×10 Pa(短時間暴露 大氣并充干燥氮氣后開始抽氣) |
標準配件 |
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可選配件 |
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