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廣電計量檢測集團股份有限公司

磁控濺射鍍膜機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱湖南艾科威半導體裝備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/6/30 18:34:00
  • 訪問次數(shù)378
產(chǎn)品標簽:

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湖南艾科威智能裝備有限公司是集科研、制造、生產(chǎn)、銷售、服務為一體的,業(yè)務主要覆蓋集成電路、分立器件、5G通訊、光電器件、傳感器等半導體領(lǐng)域,設(shè)備廣泛用于科研機構(gòu),大專院校,生產(chǎn)企業(yè)和公司的器件研究,開發(fā)和批量生產(chǎn)。公司致力于更*的設(shè)備與系統(tǒng)解決方案供應商。 公司擁有一批在半導體裝備領(lǐng)域豐富經(jīng)驗的專業(yè)技術(shù)團隊。各類技術(shù)人才齊全,具有自主研發(fā),設(shè)計和生產(chǎn)的能力,公司始終堅持"質(zhì)量是企業(yè)的生命,創(chuàng)新是企業(yè)發(fā)展的動力"為客戶提供更優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和便捷的服務。 公司產(chǎn)品與工藝相結(jié)合,依托完備的設(shè)計基礎(chǔ)和優(yōu)勢的工藝技術(shù)力量,公司在產(chǎn)品設(shè)備上,開發(fā)了相應的工藝,達到工藝與設(shè)備的結(jié)合,讓用戶獲得更佳的效果及解決方案. 服務領(lǐng)域集成電路、混合電路、分立器件、5G通訊、光電器件、傳感器、微波器件。
磁控濺射設(shè)備是一種多功能、高效率的鍍膜設(shè)備。可以在陶瓷、玻璃、石英、硅片等基底材料上濺鍍金屬、非金屬、氧化物、介質(zhì)等材料的薄膜,如:Au、Al、NiCr、TiW、Si、Al2O3、Si3N4、ZnO、ITO等。濺鍍膜層均勻、致密、附著力強,可應用到新型電子材料制備及光學、太陽能、半導體等領(lǐng)域。
磁控濺射鍍膜機 產(chǎn)品信息
磁控濺射系統(tǒng)
設(shè)備特點:
●具有多個濺射靶,可沉積單層、多層薄膜、合金薄膜和摻雜薄膜;
●濺射方式:自下而上濺射、自上而下濺射可選;
●基片臺可加熱,可制備單晶薄膜;
●可選配輔助清洗離子源,有效提高薄膜的附著力;
技術(shù)指標
●靶材數(shù)量:2-4個
●基片尺寸:2-8英寸
●基片臺轉(zhuǎn)速:5-30rpm,轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)
 
In-line磁控濺射系統(tǒng)
設(shè)備特點
●臥室雙腔結(jié)構(gòu),工件盤在上料室裝片,在濺射室進行掃描運動濺射成膜;
●上料室預抽真空,保證濺射室良好的真空環(huán)境,實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn);
●配置基片烘烤、清洗功能;
●用戶具有多級操作權(quán)限,具備一鍵式全自動工藝運行,歷史數(shù)據(jù)可查詢。
●靶材利用率高
技術(shù)指標
●基片尺寸: 400mm × 400mm 
●工件盤掃描速度:50mm/s ~ 200mm/s ,連續(xù)可調(diào)
 
應用范圍
  在平面基片表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物等薄膜材料。如Al、Cu、Au、Pt、Ti、Ni、W、NiCr、TiW、SiO2、Al2O3、TiO2、ZnO、TaN、ITO等薄膜。
 
15700106413
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