性能指標
電鏡分辨率：
- 高真空模式：0.7 nm @ 15 kV, 1.4 nm @ 1 kV,1.7 nm@500 V；減速模式：1.0 nm @ 1 kV-SE,1.2 nm@200 V-SE;
- 景深模式：2 nm@30 kV；低真空模式：3 nm @ 30kV-SE, 2 nm @ 30 kV-BSE；
- 放大倍數@30 kV：4ｘ-1,000,000ｘ；加速電壓：200 V～30 kV，連續可調；束流大小：2pA～400nA。
物鏡模式（TriLensTM三物鏡系統）：
- 超高分辨模式、分析模式、景深模式、大視野模式、無交叉模式
- 探測器：SE探測器（TriSETM）：In-Chamber SE（樣品室）、In-Beam SE（極靴內）、SE（BDM）;
- BSE探測器（TriBETM）：In-Chamber BSE、Mid-Angle BSE、In-Beam BSE。
- 低真空二次電子檢測 器(LVSTD)；
- 樣品室紅外CCD探測器。
WITec共聚焦拉曼顯微鏡：
- 532 nm（75 mW）和785 nm（125 mW）激發波長；
- 刻線光柵：配置300, 600, 1200 lines/mm@500 nm，全自動切換；
- 光譜分辨率：優于1.5cm-1； 光學物鏡：WD=4.0 mm，100x，NA=0.75； 掃描范圍：250μm*250μm*250μm。
- 共聚焦分辨率：2 μm（532 nm）； 圖像空間分辨率XY方向：360nm（532nm）； 光譜范圍：95-4000cm-1（532nm）；
主要應用
- 該設備集成了掃描電子顯微鏡與WITec共聚焦拉曼成像的兩個系統，兩者分別具有亞納米和衍射限制的200-300 nm分辨率。
- 可提供獨立SEM和共焦拉曼顯微鏡的所有功能和特性，并且能夠將掃描階段的樣品自動轉移至光學顯微鏡處進行原位表征，最終可獲取拉曼和SEM的疊加圖像。
- 可應用于材料科學、半導體、光電、太陽能電池、光刻膠、生命科學等領域。
樣品要求
- 樣品高度小于50 mm，直徑小于30mm;
- 固體干燥樣品，不接受磁性樣品或易磁化樣品。
- 拉曼測試樣品要盡可能平整。
儀器說明
- WITec共聚焦拉曼光譜顯微鏡——更高的共焦拉曼成像速度、靈敏度和分辨率；優秀的深度分辨率適合三維圖像生成和深度分析；非破壞性成像技術：樣品無需染色固定；
- 肖特基場發射高分辨掃描電鏡——TriglavTM電子鏡筒、TriLensTM物鏡和探測系統，擁有的信噪比，能夠獲取各種納米材料的表面細節、出色的形貌和成分襯度；尤其是低電壓或電子減速模式下對電子束高敏感的材料或不導電材料的成像（低k系數介電材料、光刻膠、不導電材料、原始狀態的生物材料）。
