離子滲碳爐是在真空容器中,利用輝光放電使滲碳氣體電離,所產生的碳離子在電場作用下轟擊爐料表面進行滲碳的熱處理爐。我公司研制的離子滲碳爐技術較好,獲得用戶廣泛應用和好評。
離子滲碳爐有電氣控制系統、真空爐體、滲碳氣體配氣系統、真空測量及控制系統等幾大部分組成,爐體的直徑和高度可根據工件的尺寸進行設計。
離子滲碳工藝是在真空中加熱工件,并有高能離子的轟擊,致使被處理件表面潔凈與活化,再加上滲碳氣體由于熱分解與電離的雙重作用,并在直流脈沖電場的作用 下,使得工件表面附近的空間在短時間內就形成高的碳離子濃度區,從而加速了碳向工件的滲入與擴散,大大縮短滲碳時間。例如880℃,1h的離子滲碳就可獲 得0.6mm深的硬化層,同常規氣體滲碳相比,可以縮短約50%的時間。