芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD
產品詳情
芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD
芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD (圖1)
襯底尺寸和類型:
。156 mm x 156 mm硅片50~100片/批次(雙面/背對背)
。高達300 mm x 300 mm玻璃基板10~20片/批次(雙面/背對背)
。大批量的3D產品(例如:鐘表部件,珠寶,硬幣,醫療植入部件,機械部件等)
。粉末與顆粒
。Roll-to-roll, 襯底寬 300 mm
。多孔,通孔,與高深寬比(HAR)樣品
基片傳送選件:
。氣動升降(手動裝載)
。半自動裝載,用線性裝載器實現
。全自動轉載,用工業機器人實現
工藝溫度: 50 - 500 °C
前驅體 :
。液態、固態、氣態、臭氧源
。前驅源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務
。4根獨立源管線,最多加載6個前驅體源
尺寸 :(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm
重量: 400 + 300 kg
選件: PICOFLOW™ 擴散增強器,N2發生器,尾氣處理器,定制設計,與工廠軟件連接服務。
驗收標準 :標準設備驗收標準為 Al2O3 工藝