芬蘭Picosun 原子層沉積機P-300S Pro ALD
技術參數
工藝溫度: 50 - 500 °C
襯底尺寸和類型 :300mm晶圓/單片
基片傳送選件:
。 半自動裝載,用單片Load lock與磁力操縱桿實現
。25片晶圓盒對盒式全自動裝載(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系統實現
標準 :SEMI S2認證
前驅體:
。液態,固態,氣態,臭氧源
。等離子體(僅供200mm晶圓使用,最多4路氣體)
。前驅源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務
。6條獨立源管線,最多加載8個前驅體源(最多12個前驅體源,加上plasma管路共7根獨立源管線)
重量:820 kg
尺寸:(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
選件: 集群工具,PICOFLOW™擴散增強,N2發生器,尾氣處理,定制設計,與工廠軟件連接服務。
驗收標準 :
。標準設備驗收標準為Al2O3工藝,
。其他工藝可具體協商:其他工藝、應用具體驗收標準如:
- 不均勻性
- 顆粒物含量
- 重金屬污染
- 電學性能