我們所提供的Ossila紫外臭氧清洗機系統是一種簡單,經濟,高效的材料表面清洗設備。只需把樣品放置到托盤上,關上艙門,設置時間,按下運行按鈕,就可以在幾分鐘內,快速去除大多數無機基材上的有機污染物,為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產生臭氧,將污染物分解成揮發性化合物。這些揮發性化合物從表面蒸發而跡。這種方法可產生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。
應用工藝:
?改善表面親水性
?表面清洗
?準備薄膜沉積
?表面處理
?紫外固化
?表面滅菌消毒
?去除表面單分子膜
?表面氧化
?清洗AFM / STM探針
?清洗光學元件
可清洗的基材示例:
?石英
?硅
?氧化硅
?氮化硅
?金
?鎳
?鋁
?砷化鎵
?礬土
?玻璃
?不銹鋼
可去除的污染物示例:
?光刻膠
?樹脂
?人體皮膚油脂
?清洗溶劑的殘留物
?塑料/硅片表面油漬
?助焊劑
產品特點:
?成本低;
?120x120mm樣品臺;
?處理樣品高度為14mm;
?抽屜式樣品臺,簡單方便;
?樣品臺自安全聯鎖,防止對人身傷害;
?LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”;
?60分鐘計時器;
?高強度紫外線燈源;
?可控溫的樣品臺;
?樣品清洗無需溶劑;
?超凈表面。
下圖顯示了UV臭氧處理對基材的影響,以改善表面親水性。