ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡-EVO 10,具備自動化工作流程的高清晰掃描電鏡
技術規格
設備主要部件及技術要求：
該項目的設備必須是全新設備且整體進口（包括所有零部件，元器件和附件等），滿足各自的技術指標和性能，其性能應達到水平，可靠性好，性能穩定，控制精度高，使用、操作和維修方便，售后服務優良，必須在河南地區常駐有售后工程師以方便后期維護。
1、基本要求
電子光學系統
.1 發射源：鎢燈絲；
.2 分辨率：高真空二次電子像 ≤ @30kV≤ @3kV低真空背散射電子像 ≤（30kV）；
.3 加速電壓范圍：200V－30kV，10V 步進連續可調；
.4 放大倍數范圍不小于：7X－1,000,000X，連續可調；
*.5 探針電流范圍： pA~5μA，連續可調；
*.6 電子束控制模式不少于以下幾種控制模式：分辨率模式、分析模式、大視野模式、大景深模式和魚眼模式；
*.7 分析工作距離不大于 且分析工作距離下的視野范圍不小于 6mm，普通模式下視野范圍不小于 20mm；
真空系統
.1 抽真空系統：渦輪分子泵 + 機械泵，不需要冷卻水
.2 樣品室真空度：優于優于 3 x 10-4 Pa
.3 抽真空時間：≤3 分鐘
樣品室及樣品臺
.1 樣品室內部尺寸不小于 310mm（直徑）×220mm（高）；3
*.2 可放置的樣品尺寸和承重：樣品直徑不小于 230mm，高度不小于 100mm，樣品臺承重不小于5kg；
.3 配備探測器：高真空二次電子探測器，背散射電子探測器，樣品室紅外 CCD 攝像裝置
*.4 配置五軸馬達驅動樣品臺：樣品臺馬達移動范圍：不小于 80mm（X 方向），100mm（Y 方向），35mm（Z 方向），-10°~ 90°（傾斜），360°（旋轉）
.5 樣品臺類型：全電動 5 軸馬達驅動樣品臺，雙軸搖桿操作系統；
.6 樣品臺具有接觸報警與自停功能;
*.7 馬達臺重復精度不低于 2um；
圖像處理系統
.1 配套計算機系統：不低于 CPU P4 ，RAM 512Mb，硬盤 120Gb，軟盤驅動器 4Mb，光盤刻錄機，24″液晶顯示屏，鍵盤，鼠標，USB 接口
.2 顯示圖像分辨率：不小于 1024×768 像素
*.3 單幅圖像存儲圖像分辨率：不小于 32k×24k 像素
.4 存儲圖像格式：TIFF、BMP 與 JPEG
控制系統
.1 配置 Windows 操作系統
.2 配置專業的電子顯微鏡控制軟件
.3 自動功能：自動電子槍啟動，電子槍自動對中，自動偏壓調整，自動和手動聚焦，聚焦補償，動態聚焦，旋轉補償，自動消像散，圖像降噪處理。
.4 圖像采集：像素平均、幀平均、幀積分、行平均、行積分；
.5 顯示器：24″高對比度彩色平板顯示器；
.6 顯示方式：全屏顯示、分屏顯示、灰度直方圖、輪廓方式、偽彩色；
.7 圖像注釋與數據區：提供標準數據區和定制數據區，可在圖片上顯示各種電鏡參數和字符。
.8 狀態菜單：顯示各種工作
.9 測量功能：可對圖像中的形貌進行點間距、角度、直徑等測量。
能譜儀系統
.1 功能：用于材料的微區成分定性、定量分析。
.2 配置電制冷能譜儀，能譜儀窗口面積不小于 30mm2，能量分辨率(600000CPS) Mn-Ka 優于129eV；
.3 元素分析范圍：Be4～CF98；
.4 能譜儀處理單元與計算機采用分立式設計，單探測器輸出計數率優于 600,000CPS，可處理計數率1,500,000CPS；4
.5 可將電鏡圖像傳輸到能譜儀的顯示器上，并以該圖為中心做微區分析，實現點、區域定性定量分析，以及線掃描和面分布功能；
.6 系統配置專業能譜儀數據處理工作站；
離子濺射儀
.1 玻璃處理室：直徑不小于 100 毫米，高度不小于 130 毫米；
.2 試樣臺尺寸：直徑不小于 40 毫米可同時放 6 個樣品杯；
.3 靶尺寸：直徑不小于 58 毫米；
.4 真空系統：直聯旋片真空泵 1 升/秒；
.5 真空檢測：皮氏計；
.6 真空保護：20Pa 配有微量充氣閥調節工作真空；
.7 工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，配有氬氣專用進氣口和微量充氣調節；
.8 配置：內置一塊金鈀。
2 、產品配置要求
為達到上述技術指標，投標產品應配置必要的硬、軟件。投標產品不低于以下配置：
掃描電子顯微鏡 1 套；
RS232 能譜儀智能通訊接口 1 套；
電制冷能譜儀 1 套；
空氣壓縮機 1 套；
樣品室內全自動控制紅外 CCD 相機 1 套；
二次電子探測器 1 套，背散射電子探測器 1 套；
樣品束流檢測器或者束流檢測皮安表 1 套；
不間斷穩壓電源 1 套；
碳導電雙面膠帶 2 卷和燈絲 1 盒（10 支）；
更簡單、更智能、整合性更高
智能化成像 – 性能高效
EVO 能夠提高制造和質量控制領域的工作效率。試想一下，將典型的工作流程從 400 多步操作簡化為 15 步，以三種不同的放大倍率在 9 個樣本上對感興趣的 4 個點進行成像。智能化系統能夠自動完成光路對中、調節放大倍率、聚焦和移動載物臺 – 一切都為最終的圖像采集，系統會根據所選的樣品設置成像條件。通過易于操作的click-stop 按鈕控制鏡筒中間的光闌孔，從而獲得可靠且重復性高的檢測結果。
的表面成像能力
您可以在低電壓下利用高分辨背散射電子探測器（HD BSD）實現具有清晰襯度的表面細節成像。針對電子束敏感樣品或表面形貌分析，電子束減速技術能夠提高分辨率及增強表面細節信息。成像過程中的漂移校正有助于進一步提高邊緣分辨率。EVO 系列可提供包含高性能 HD 束源在內的三類電子束源技術，通過組合應用開創圖像質量全新標準。
環境電子顯微鏡技術
EVO LS 可在不同溫度、壓力和濕度條件下觀察生命科學樣品及材料樣品的納米級信息。使用EVO LS 能獲得細胞、植物和生物在自然水合狀態下的細節信息。分析材料性能，如耐蝕性、耐熱性及涂鍍性能。EVO LS 型環境掃描電鏡能在高達 3000 Pa 的壓力下獲取高品質圖像，輕松完成含水樣品的成像，同時利用計算機控制環境條件，以避免出現脫水假象。
