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廣電計量檢測集團股份有限公司

美國 Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機 NOC-4000

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱深圳市科時達電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號NOC-4000
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/6/16 12:26:36
  • 訪問次數244
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深圳市科時達電子科技有限公司創建于2011年,經過十年的發展,已經成長為一家專注于電子材料、半導體儀器設備、醫療設備三大產品領域的,是一家集研發、制造、銷售為一體的企業。我們的主營業務涉及了研發銷售及加工電子材料及周邊產品;電子光電產品設備研發組裝及銷售,半導體儀器設備銷售;國內貿易、貨物及技術進出口;醫療器械研發及銷售;醫用耗材及醫療用品的銷售等。科技創新是科時達公司的核心競爭力。我們擁有一支高度專業化的技術研發和管理團隊,建立了國內的實驗室和光電研究中心,與多家科研機構與大專院校開展“產、學、研”合作,成功開發出一系列具有高科技含量的市場產品,公司產品通國內科研機構的產品認證。同時,公司擁有電子信息領域相對完備的科技創新體系,在電子裝備、醫療設備、產業基礎、網絡安全等領域占據技術主導地位,肩負著支撐科技自立自強、推進國內科技現代化、加快數字經濟發展、服務社會民生的重要職責。聚焦“三大定位”主責,科時達公司按照“做優電子裝備、做大儀器設備、做精產業基礎、做強研發銷售”的總體布局,持續優化核心業務體系,推動企業在科技現代化建設、現代產業體系建設的核心關鍵技術節點上“布點”,在產業鏈價值鏈創新鏈關鍵環節上“成線”,在關系國家、國民經濟命脈和國計民生關鍵領域上“控面”。做強電子裝備,重點發展利用聲、光、電磁信號進行信息感知、傳輸、運用等的系統級裝備和產品,打造全域多維一體新一代電子裝備,不斷夯實在高校科研領域和高科枝企業的提供地位。做大儀器設備,重點發展半導體儀器基礎設施和醫療設備應用與整體解決方案,全面支撐基于網絡信息體系的聯合和全域能力提升、國家治理能力提升和數字化發展。做精產業基礎,重點打造形成電子基礎產品科研和生產的基礎支撐能力,以夯實產業鏈供應鏈自主可控能力為根本目標,推動以“科時達基因”為核心的銷售集群式發展。做強研發銷售,致力于電子產品的研發。科時達公司是一家,多年來公司研發團隊致力于電子材料、半導體儀器和醫療設備的研發。同時企業還致力于將產品做好國內外市場銷售,在整體銷售模式中具備一套完整的銷售體系。以客戶需求為導向,以質量求生存,科時達公司以超凡的品質和優良的服務,獲得國內外市場的一致認可;公司營銷網絡覆蓋,產品世界各地,目前已經成為國內電子科技行業中重要的生產制造基地。
美國Nano-master離子束刻蝕濺射鍍膜一體機NOC-4000光學樣片放置于一個腔體種進行原子級清洗和拋光處理,之后自動傳送到第二個腔體中進行光學鍍膜,這個過程無需間斷真空
美國 Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機 NOC-4000 產品信息

美國 Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機 NOC-4000



光學樣片放置于一個腔體種進行原子級清洗和拋光處理,之后自動傳送到第二個腔體中進行光學鍍膜,這個過程無需間斷真空。系統也可以獨立使用其中的一個腔體,每一個都可以實現各自的自動上/下載片功能。

緊湊型設計,占地面積僅為 46”x44”,不銹鋼立柜。

工藝過程通過觸摸屏 PC 和 LabView 軟件,可實現全自動的 PC控制,具有高度的可重復性,且具有友好的用戶界面。
系統具有完整的安全聯鎖,提供四級密碼訪問保護,含:
。 操作者權限:運行程序
。工藝師權限:添加/編輯和刪除程序
。 工程師權限:可獨立控制子系統,并開發程序
。服務權限:NM 工程師故障診斷和排除


真空系統包含渦輪分子泵和機械泵,極限真空可達到 5 x10-7Torr。渦輪分子泵與腔體之間的直連設計,系統可獲得的真空傳導率,基本可以達到 15 分鐘可達到工藝真空,8 小時達到腔體極限真空。腔體壓力調節通過 PC 自動控制渦輪速度而全自動調節,快速穩定。

在個腔體中通過離子束可達到原子級的清洗,離子源安裝在腔體頂部,離子源配套 2KV,300mA 的電源。樣品臺配套 4”或 6”基片夾具、水冷,并可對著離子束流實現+900C 到-900C 旋轉。系統配套氣動遮板,使得工藝運行前穩定離子束流。

根據應用需要可以升級離子源,以支持更大尺寸晶圓片的處理。

第二個腔體可以根據應用需要配套 ALD、PECVD、磁控、電子束蒸鍍、熱蒸鍍等鍍膜。


膜厚監控儀校準后可實現原位膜厚測量,可以工藝時間或工藝膜厚為工藝終點條件,系統支持設定目標膜厚,當達到設定的目標膜 厚時全自動結束工藝。水冷保護晶振夾具,膜厚和沉積速率以及晶振壽命可顯示,可存儲高達 100 個膜厚數據。

系統的兩個腔體均配套單片的 Auto L/UL,可實現自動進樣、對準、出樣,在不間斷工藝真空情況下連續處理樣片。Load Lock腔體帶獨立真空系統和真空計,通過 PC 全自動監控。兩個腔體之間可以互相傳送樣片。整個過程計算機全自動控制。


系統可選
。 向下/向上濺射
。 共濺射
。 DC, RF 以及脈沖電源
。 離子束輔助沉積
。 電子束源
。 熱蒸鍍
。 等離子源
。 ALD 沉積或 PECVD 沉積


關鍵詞:真空計
15700106413
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