等離子水洗Local Scrubber設備:去除半導體Dry Etch、ThinFilm、Diffusion等晶圓工藝制程中使用或產生的PFC溫室氣體和有毒有害氣體,如:CF4、NF3、SF6、C2F6、CHF3、CH2F2等。
原理
通過直流電源,使工作氣體(氮氣)進入等離子體反應器,在正負電流的作用下,被電離成等離子體,瞬間產生巨大的火焰,產生的高溫火焰將廢氣分解。
優勢
- 去除效率高,不需要燃料和熱源,耗能低;
- 處理高沸點廢氣,應用范圍廣;
- 高溫、反應速度快,
- 設備占地面積小、便于安裝;
本裝置的直流電弧等離子體為非轉移型,兩電極區域不參與反應,只產生等離子體,產生的火焰溫度可達3000度以上。
等離子反應器的MTBF大于1年,反應室內腔的材質耐熱和耐腐,具有四個進氣口,裝置具備冷卻區、噴淋區及兩級填料除霧區,對PFC溫室氣體的去除效率>90%。
性能參數
去除效率 | CF4>90%@150slm、NF3>95%@300slm |
MTBF | >6months; |
MTTR | <1.5hr |
材質 | 內腔PTEE、水箱CPVC |
等離子弧使用壽命 | >1year |
尺寸(mm) | 800*800*1850 |
進氣口 | NW50*4 |
耗能 | 12kw for CF4>90%;9kw for NF3>95% |
水量 | <4slm |