【使用場景】 臭氧凈化設(shè)備主要針對是中低濃度臭氧污染的凈化(O3≤500ppm),能夠在常溫條件下,快速凈化分解臭氧為的氧氣,無需耗能。
● 靜電復(fù)印機(jī)、激光打印機(jī)、UV 固化機(jī)、各類空氣凈化器等。
● 臭氧氧化廢水過程的低濃度臭氧尾氣治理。
● 光解、等離子、臭氧發(fā)生器、高壓靜電等設(shè)備的臭氧二次污染治理。
● 科研、殺菌消毒、公共場所異味消除后臭氧污染凈化等。
● 工業(yè)生產(chǎn)過程使用臭氧或者產(chǎn)生臭氧的設(shè)備及場合的臭氧凈化。
【產(chǎn)品特點(diǎn)】
●臭氧消除過程,無需額外提供任何化學(xué)藥劑。
●常溫凈化分解臭氧生成氧氣,滿足安全和經(jīng)濟(jì)等要求。
●材料使用簡單方便,使用壽命長、凈化效率可達(dá)95%以上。