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半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱北京同林科技有限公司
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  • 更新時間2023/4/10 15:32:17
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臭氧發生器
半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK) MTK-HT 型號:MTK-HT 品牌:MTK 臭氧濃度:臭氧水濃度高 30ppm 臭氧產量:氧氣消耗量~16L/min. ......
半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK) 產品信息
進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)
參數
臭氧生成方式:無聲放電法
將臭氧氣體溶解于純凈水的方法:噴射方式
臭氧水中臭氧的濃度監測:紫外吸收法
臭氧水濃度:為30ppm
臭氧水流量:50L /min
設備尺寸:寬度400mm 深度550mm 高度850毫米(標準型)
重量:20 ~ 100Kg
消耗功率:~3KW
氧氣壓力:為0.1MPa(供給為0.3MPa)
氧氣純度:99.5%()
氧氣消耗量:~16L/min.
供應純凈水的壓力:0.20Mpa以上(理想值0.25MPa)
供應純凈水的溫度:低于25℃
臭氧氣體生成部的冷卻水溫度:理想值為20℃以下。如無法實現,需根據情況增加冷卻器(可選)。
CO2氣體消耗量(臭氧濃度過高時需通過純凈水注入):大約100cc/min
半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)
特點
臭氧水濃度高
(30ppm)
■臭氧水中無金屬雜質
半導體,液晶,太陽能電池等潔凈規格(臭氧水生成部由氟素樹脂材料組成)
■臭氧濃度上升快
達到臭氧濃度僅需大約1分鐘
■生成器體積小
長400mm。寬550mm。高820mm(標準規格)
用途
?半導體(清洗)
?FPD,液晶(清洗)
?MEMS,傳感器(清潔)
?硬盤(清洗)
?太陽能電池(清潔)
?醫療(洗手,純凈水管道清洗)
?食品(洗手,消毒,除臭)
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