蔡司 SIGMA高分辨率場發射掃描電子顯微鏡采用成熟的GEMINI光學系統設計，分辨率超過0.8nm，為您提供zui高分辨率和*分析性能科研平臺。Sigma500/VP專注于*的EDS幾何學設計使您可以獲取*的分析性能。借助Sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。您會比以往更快、更多的獲取數據。多種探測器的選擇使Sigma500/VP可以精準的匹配您的應用程序：您可以獲取微小粒子、表面、納米結構、薄膜、涂層和多層的圖像信息。
蔡司 SIGMA高分辨率場發射掃描電子顯微鏡【技術參數】
分辨率： 0.8nm @15 kV 1.6 nm @1kV
放大倍數：10-1,000,000×
加速電壓：調整范圍：0.02-30 kV（無需減速模式實現）
探針電流： 4pA-20nA （40nA&100nA可選）
低真空范圍：2-133Pa（Sigma 500VP可用）
樣品室： 358 mm（φ），270.5 mm（h）
樣品臺：5軸優中心全自動
X=125 mm（可選130mm）
Y=125 mm（可選130mm）
Z=50 mm
T=-10o-90o
R=360o 連續
系統控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系統，可選鼠標、鍵盤、控制面板控制
【產品應用】
掃描電鏡廣泛用于材料科學（金屬材料、非金屬材料、納米材料）、冶金、生物學、醫學、半導體材料與器件、地質勘探、病蟲害的防治、災害（火災、失效分析）鑒定、刑事偵察、寶石鑒定、工業生產中的產品質量鑒定及生產工藝控制等。在材料科學、金屬材料、陶瓷材料半導體材料、化學材料等領域，進行材料的微觀形貌、組織、成分分析。各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體/晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。
