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高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱廣東匯成真空科技股份有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/3/26 17:45:52
  • 訪問(wèn)次數(shù)701
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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廣東匯成真空科技股份有限公司是一家面向的真空應(yīng)用解決方案提供商,研發(fā)、生產(chǎn)和銷售各類光學(xué)鍍膜設(shè)備、功能性薄膜涂層設(shè)備、裝飾涂層設(shè)備、卷繞鍍膜設(shè)備、汽配鍍膜設(shè)備、連續(xù)式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線、超高真空系統(tǒng)等真空設(shè)備、半導(dǎo)體設(shè)備、電子生產(chǎn)設(shè)備、光電設(shè)備、光伏設(shè)備、動(dòng)力電池設(shè)備及產(chǎn)品相關(guān)配件的國(guó)家企業(yè),專注設(shè)備與產(chǎn)品的相關(guān)制造工藝和應(yīng)用技術(shù)、控制軟件、工藝流程控制軟件及相關(guān)生產(chǎn)自動(dòng)化軟件的研發(fā)、應(yīng)用,并提供技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)咨詢和技術(shù)服務(wù)。 公司成立于2006年,目前擁有在職員工近300人,其中高、中級(jí)以上專業(yè)技術(shù)職稱人員80余人,公司聘請(qǐng)了國(guó)內(nèi)真空行業(yè)專家、教授和高級(jí)工程師,專門指導(dǎo)和負(fù)責(zé)公司新產(chǎn)品的研發(fā)與設(shè)計(jì),取得發(fā)明、外觀設(shè)計(jì)、實(shí)用新型61項(xiàng),版權(quán)著作權(quán)6項(xiàng)。公司擁有標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)車間,大型加工中心配備500噸液壓沖壓機(jī)、退火爐、小件機(jī)加工中心、液壓擺式剪板機(jī)、數(shù)控火焰切割機(jī)床、數(shù)控水切割平臺(tái)、自動(dòng)堆焊不銹鋼裝置、數(shù)控加工中心,研發(fā)中心配備百格劃痕儀、鉛筆硬度計(jì)、恒溫恒濕箱、分光光度計(jì)、鹽霧測(cè)試儀、金相顯微鏡、線性磨耗儀、硬度計(jì)、膜厚測(cè)試儀。
HIGHPRECISIONE-BEAMEVAPORATIONCOATINGMACHINE高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光學(xué)多層薄膜的精密真空鍍膜機(jī);將滿足客戶需求的多種元件組合在一起,可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜;基片傘架采用中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn)),減少產(chǎn)生振動(dòng)和顆粒,使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)
高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī) 產(chǎn)品信息
HIGH PRECISION E-BEAM EVAPORATION COATING MACHINE 高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)

在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光學(xué)多層薄膜的精密真空鍍膜機(jī);將滿足客戶需求的多種元件組合在一起,可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜;基片傘架采用中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn)),減少產(chǎn)生振動(dòng)和顆粒,使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)。

采用坩堝上沒(méi)有極片的電子束加熱方式作為蒸發(fā)源,可以穩(wěn)定地形成多層膜;采用本公司的比率控制法和多點(diǎn)在線監(jiān)控,可以形成高精度且穩(wěn)定的光學(xué)多層膜;可利用操作性良好的升降機(jī)來(lái)取出基片傘架。

使用均勻分布的高離子電流密度的離子源,搭載雙電子槍,多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上,利用自動(dòng)蒸鍍控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)蒸鍍過(guò)程,工件架可選擇鐘罩式或行星式。

AR 膜(基材玻璃透過(guò)率>91.5%):
■ 420-680nm波段,單面平均透過(guò)率>95%,反射率小于0.5(平均值)% ;
■ 雙面平均透過(guò)率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;

AS/AF膜測(cè)試標(biāo)準(zhǔn):
■ 初始接觸角范圍為 115±5°;
■ 鋼絲絨耐摩擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn):用 0000#鋼絲絨,面積為 10*10mm,行程 40 次/分,負(fù)載1Kg,5000 次往返摩擦后,接觸角大于 100°;
■ 橡皮擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn): 直徑 6mm 橡皮擦,行程 25 次/分,負(fù)載1Kg, 2500 次往返摩擦后,接觸角大于 100°;
備注:測(cè)試樣片玻璃需為經(jīng)過(guò)精密拋光過(guò)的觸摸屏蓋板專用玻璃,表面光潔。


優(yōu)勢(shì):

?提高沉積速率以實(shí)現(xiàn)更高產(chǎn)量
?在半導(dǎo)體,光電和光子學(xué)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)高精度工藝
?堅(jiān)固耐用且易于維護(hù)

Product Advantage.

產(chǎn)品特點(diǎn)
HCEE系列高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)包括以下關(guān)鍵功能:
  • 高精密

    高精度光學(xué)多層薄膜的精密系統(tǒng)

  • 客制化

    滿足客戶需求的多種元件組合

  • 簡(jiǎn)單

    易于操作和維護(hù)

  • 通用

    高性能、高通用性

  • 自動(dòng)化

    自動(dòng)蒸鍍控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)蒸鍍過(guò)程

  • 遠(yuǎn)程訪問(wèn)

    提供工廠遠(yuǎn)程診斷

  • HCEE-900
  • HCEE-1100
  • HCEE-1350
  • HCEE-1550
  • HCEE-1800
規(guī)格
型號(hào) HCEE-900
腔體尺寸 Φ900 x H1300
結(jié)構(gòu) 立式前開(kāi)門,SUS304不銹鋼
性能
轉(zhuǎn)速 10~30RPM(可變)
抽速 大氣壓至1.5×10-3Pa≤30min
極限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
主要配置
夾具系統(tǒng) 中心上旋轉(zhuǎn)傘架,單體或分體
加熱系統(tǒng) 鹵素?zé)?/ 鎧裝加熱器,350℃
排氣系統(tǒng) 低真空泵組 + 高真空泵組 + Polycold
真空控制系統(tǒng) 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計(jì)
鍍膜系統(tǒng) 電子槍,無(wú)氧銅坩鍋,阻蒸蒸發(fā)源,射頻/考夫曼型/霍爾型離子源
充氣系統(tǒng) MFC或APC自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀
膜厚控制儀 晶控或光控
控制系統(tǒng) PC+PLC
應(yīng)用
光學(xué)薄膜應(yīng)用 UV/IR截止濾光片、裝飾膜、帶通濾光片、RGB濾光片、光觸媒、HR膜等
適用波長(zhǎng) 300nm~1100nm
注:可客制化(數(shù)據(jù)僅供參考)

Application cases.

應(yīng)用案例
規(guī)格
型號(hào) HCEE-1100
腔體尺寸 Φ1100 x H1520
結(jié)構(gòu) 立式前開(kāi)門,SUS304不銹鋼
性能
轉(zhuǎn)速 10~30RPM(可變)
抽速 大氣壓至1.5×10-3Pa≤30min
極限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
主要配置
夾具系統(tǒng) 中心上旋轉(zhuǎn)傘架,單體或分體
加熱系統(tǒng) 鹵素?zé)?/ 鎧裝加熱器,350℃
排氣系統(tǒng) 低真空泵組 + 高真空泵組 + Polycold
真空控制系統(tǒng) 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計(jì)
鍍膜系統(tǒng) 電子槍,無(wú)氧銅坩鍋,阻蒸蒸發(fā)源,射頻/考夫曼型/霍爾型離子源
充氣系統(tǒng) MFC或APC自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀
膜厚控制儀 晶控或光控
控制系統(tǒng) PC+PLC
應(yīng)用
光學(xué)薄膜應(yīng)用 UV/IR截止濾光片、裝飾膜、帶通濾光片、RGB濾光片、光觸媒、HR膜等
適用波長(zhǎng) 300nm~1100nm
注:可客制化(數(shù)據(jù)僅供參考)

Application cases.

應(yīng)用案例
規(guī)格
型號(hào) HCEE-1350
腔體尺寸 Φ1350 x H1610
結(jié)構(gòu) 立式前開(kāi)門,SUS304不銹鋼
性能
轉(zhuǎn)速 10~30RPM(可變)
抽速 大氣壓至1.5×10-3Pa≤30min
極限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
主要配置
夾具系統(tǒng) 中心上旋轉(zhuǎn)傘架,單體或分體
加熱系統(tǒng) 鹵素?zé)?/ 鎧裝加熱器,350℃
排氣系統(tǒng) 低真空泵組 + 高真空泵組 + Polycold
真空控制系統(tǒng) 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計(jì)
鍍膜系統(tǒng) 電子槍,無(wú)氧銅坩鍋,阻蒸蒸發(fā)源,射頻/考夫曼型/霍爾型離子源
充氣系統(tǒng) MFC或APC自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀
膜厚控制儀 晶控或光控
控制系統(tǒng) PC+PLC
應(yīng)用
光學(xué)薄膜應(yīng)用 UV/IR截止濾光片、裝飾膜、帶通濾光片、RGB濾光片、光觸媒、HR膜等
適用波長(zhǎng) 300nm~1100nm
注:可客制化(數(shù)據(jù)僅供參考)

Application cases.

應(yīng)用案例
規(guī)格
型號(hào) HCEE-1550
腔體尺寸 Φ1550 x H1810
結(jié)構(gòu) 立式前開(kāi)門,SUS304不銹鋼
性能
轉(zhuǎn)速 10~30RPM(可變)
抽速 大氣壓至1.5×10-3Pa≤30min
極限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
主要配置
夾具系統(tǒng) 中心上旋轉(zhuǎn)傘架,單體或分體
加熱系統(tǒng) 鹵素?zé)?/ 鎧裝加熱器,350℃
排氣系統(tǒng) 低真空泵組 + 高真空泵組 + Polycold
真空控制系統(tǒng) 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計(jì)
鍍膜系統(tǒng) 電子槍,無(wú)氧銅坩鍋,阻蒸蒸發(fā)源,射頻/考夫曼型/霍爾型離子源
充氣系統(tǒng) MFC或APC自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀
膜厚控制儀 晶控或光控
控制系統(tǒng) PC+PLC
應(yīng)用
光學(xué)薄膜應(yīng)用 UV/IR截止濾光片、裝飾膜、帶通濾光片、RGB濾光片、光觸媒、HR膜等
適用波長(zhǎng) 300nm~1100nm
注:可客制化(數(shù)據(jù)僅供參考)

Application cases.

應(yīng)用案例
規(guī)格
型號(hào) HCEE-1800
腔體尺寸 Φ1800 x H1850
結(jié)構(gòu) 立式前開(kāi)門,SUS304不銹鋼
性能
轉(zhuǎn)速 10~30RPM(可變)
抽速 大氣壓至1.5×10-3Pa≤30min
極限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
主要配置
夾具系統(tǒng) 中心上旋轉(zhuǎn)傘架,單體或分體
加熱系統(tǒng) 鹵素?zé)?/ 鎧裝加熱器,350℃
排氣系統(tǒng) 低真空泵組 + 高真空泵組 + Polycold
真空控制系統(tǒng) 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計(jì)
鍍膜系統(tǒng) 電子槍,無(wú)氧銅坩鍋,阻蒸蒸發(fā)源,射頻/考夫曼型/霍爾型離子源
充氣系統(tǒng) MFC或APC自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀
膜厚控制儀 晶控或光控
控制系統(tǒng) PC+PLC
應(yīng)用
光學(xué)薄膜應(yīng)用 UV/IR截止濾光片、裝飾膜、帶通濾光片、RGB濾光片、光觸媒、HR膜等
適用波長(zhǎng) 300nm~1100nm
注:可客制化(數(shù)據(jù)僅供參考)

Application cases.

應(yīng)用案例
15700106413
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