（1） 注入機中的磁性離子分析器能將需要的雜質離子從混合的離子束中分離出來。
（2） 加速管。為了獲得更高的能量（也就是運動速度）日本HD裝卸設備諧波CSF-50-160-2UH，正離子還需要在加速管中的電場下進行加速。
（3） 掃描系統。注入機離子束斑約1~3cm2，日本HD裝卸設備諧波CSF-50-160-2UH需要通過掃描覆蓋整個硅片。可以通過固定硅片，移動束斑，或者相反操作進行掃描。掃描系統有靜電掃描、機械掃描、混合掃描和平行掃描。
（4） 工藝腔。離子束注入在工藝腔中進行。一般工藝腔包括掃描系統、硅片裝卸終端臺、硅片傳輸系統、檢測系統，以及控制溝道效應的裝置。
離子注入參數主要有劑量和射程。日本HD裝卸設備諧波CSF-50-160-2UH劑量是單位面積硅片注入的離子數，單位是原子每平方厘米（或離子每平方厘米）。射程是離子注入過程中，離子穿入硅片的總距離。注入機的能量越高，則雜質原子穿入硅片深度越大。
