主要特點:
◆能在可變壓力下操作
◆*X射線和EBSD分析
◆可移動大平臺
◆快抽真空
◆可升級在高壓和水蒸氣下成像和分析
◆高亮度LaB6資源選擇
◆光線套選擇
技術參數:
分辨率: | 3.0nm@ 30KV(SE and W) | 4.0nm@ 30KV(VP with BSD) |
加速電壓 | 0.2—30KV | |
放大倍數 | 5—1000000x | |
探針電流 | 0.5PA-5μA | |
X-射線分析工作距離 | 8.5mm 35度接收角 | |
低真空壓力范圍 | 10—400Pa (LS15:環掃模式10-3000Pa) | |
工作室 | 365mm(φ)×275mm(h) | |
5軸優中心自動樣品臺 | X=125mm Y=125mm Z=50mm T=-10°- 90°R=360° | |
較大試樣高度 | 145mm | |
大試樣直徑 | 250mm | |
系統控制 | 基于Windows 7 的SmartSEM操作系統 | |
存儲分辨率 | 32,000 x 24,000 pixels |
產品應用:
◆掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。