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JEM-3200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡

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公司名稱北京培科創(chuàng)新技術(shù)有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2023/3/1 13:12:26
訪問次數(shù)326

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北京培科創(chuàng)新技術(shù)有限公司

培科創(chuàng)新是一家專注于科學(xué)研究及工業(yè)應(yīng)用的儀器渠道商和系統(tǒng)解決方案提供商，我們?yōu)楦咝！⒖蒲性核⑵髽I(yè)等各類客戶提供全面的儀器設(shè)備解決方案。公司成立于2012年，總部設(shè)在北京，在上海、深圳、沈陽(yáng)等地設(shè)有多個(gè)辦事處。
培科創(chuàng)新，與多家儀器制造商建立了良好的戰(zhàn)略合作關(guān)系，不斷優(yōu)化提升的公司自身營(yíng)運(yùn)和服務(wù)質(zhì)量，致力于向用戶提供國(guó)際的產(chǎn)品、化的解決方案和高品質(zhì)的專業(yè)服務(wù)，承擔(dān)著科技產(chǎn)業(yè)助推器的責(zé)任，服務(wù)并推動(dòng)科學(xué)研究和科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

培科創(chuàng)新，秉承高度負(fù)責(zé)和誠(chéng)信的原則展開業(yè)務(wù)，努力營(yíng)造員工和客戶之間互相尊重、坦誠(chéng)溝通、高效互動(dòng)的健康環(huán)境。我們了解客戶的實(shí)際需求，并提供合理優(yōu)質(zhì)的解決方案，并盡力滿足客戶的近期和長(zhǎng)期需求。培科在客戶的關(guān)注和員工們的努力中不斷進(jìn)步，擁有遍布全國(guó)的營(yíng)銷渠道和服務(wù)網(wǎng)絡(luò)、職業(yè)化的技術(shù)服務(wù)團(tuán)隊(duì)。

優(yōu)秀的員工、科學(xué)的管理、高效的營(yíng)運(yùn)、便捷的信息網(wǎng)絡(luò)、雄厚的資金、多年的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)和*的經(jīng)營(yíng)理念，是我們服務(wù)于客戶的基礎(chǔ)和保證。

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JEM-3200FS場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡配備了加速電壓為300kV的場(chǎng)發(fā)射電子槍（FEG）和鏡筒內(nèi)置式型能量過濾器，能為廣泛的研究領(lǐng)域提供各種全新的解決方案

JEM-3200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡產(chǎn)品信息

JEM-3200FS場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡配備了加速電壓為300kV的場(chǎng)發(fā)射電子槍（FEG）和鏡筒內(nèi)置式Ω型能量過濾器，能為廣泛的研究領(lǐng)域提供各種全新的解決方案。

鏡筒內(nèi)置式Ω型能量過濾器(omega 過濾器)

鏡筒內(nèi)置式Ω型能量過濾器內(nèi)置于成像透鏡系統(tǒng)，能容易地獲得能量過濾像和能量損失譜，同時(shí)還能獲得與傳統(tǒng)電子顯微鏡同等的放大倍率范圍。此外、Ω型過濾器的電子光學(xué)系統(tǒng)在設(shè)計(jì)上地減少了圖像畸變，出廠前還將剩余一點(diǎn)的畸變做了最后的修正。JEM-3200FS還采用了高靈敏度的相機(jī)系統(tǒng)及圖像處理系統(tǒng)（選配件），可以構(gòu)建元素面分布系統(tǒng)及能量損失譜系統(tǒng)。

新型控制系統(tǒng)

電子槍、電子光學(xué)系統(tǒng)、測(cè)角臺(tái)、抽真空系統(tǒng)等電子顯微鏡基本功能的系統(tǒng)化，實(shí)現(xiàn)了高穩(wěn)定、高性能的控制系統(tǒng)。圖像畫面和用戶界面采用Windows ®*1，可以進(jìn)行編程操作和附件的集中控制。

新型測(cè)角臺(tái)

系統(tǒng)化的新型測(cè)角臺(tái)內(nèi)置壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，使高倍率下的樣品移動(dòng)更加精確。

*1 : 注意事項(xiàng)：Windows是微軟公司在美國(guó)和其他國(guó)家的注冊(cè)商標(biāo)。
*2 : 僅有壓電元件包括在基本單元中，壓電元件的電源為選配件。

物鏡極靴*1	超高分辨UHR	高分辨率HR	高傾斜HT	高襯度HC
分辨率
點(diǎn)分辨率晶格分辨率	0.17nm 0.1nm	0.19nm 0.1nm	0.21nm 0.1nm	0.26nm 0.14nm
能量分辨率	0.9 eV（零損失FWHM）
加速電壓	300kV，200kV,100kV*2
最小步長(zhǎng) 　能量位移	100V 3,000V (以0.2V為步長(zhǎng))
電子槍
發(fā)射體	ZrO/W(100) 肖特基式
亮度	≧7×108 A/cm2 ? sr
真空度	3×10-8Pa
探針電流	探針直徑為1nm時(shí)，電流在0.5nA以上
穩(wěn)定度
加速電壓	2×10-6/min
物鏡電流	1×10-6/min
過濾器透鏡電流	1×10-6/min
物鏡
焦距	2.7 mm	3.0 mm	3.5 mm	3.9 mm
球差系數(shù)	0.6 mm	1.1 mm	1.4 mm	3.2 mm
色差系數(shù)	1.5 mm	1.8 mm	2.2 mm	3.0 mm
最小焦距步長(zhǎng)	1.0 nm	1.4 nm	1.5 nm	4.1 nm
束斑尺寸
TEM 模式	2 ～ 5 nmφ		2 ～ 5 nmφ	7 ～ 30 nmφ
EDS 模式	0.4 ～ 1.6 nmφ		0.5 ～ 2.4 nmφ	4 ～ 20 nmφ
NBD 模式	0.4 ～ 1.6 nmφ		0.5 ～ 2.4 nmφ	-
CBD 模式	0.4 ～ 1.6 nmφ		0.5 ～ 2.4 nmφ	-
電子束衍射
衍射角(2α)	1.5 t～ 20 mrad			-
取出角	±10 °			-
倍率
MAG 模式	×2,500 ～ 1,500,000		×2,000 ～ 1,200,000	×1,500 ～ 1,200,000
LOW MAG 模式	×100 ～ 3,000
SA MAG 模式	×8,000 ～ 600,000		×6,000 ～ 500,000	×5,000 ～ 500,000
視野	10eV時(shí)狹縫寬度60mm(底片上) 2eV時(shí)狹縫寬度25mm(底片上)
相機(jī)長(zhǎng)度
選區(qū)電子衍射	200 ～ 2,000 mm		250 ～ 2,500 mm	400 ～ 3,000 mm
EELS 散射
能量選擇　在能量選擇狹縫上	0.85 μm/eV , 300 kV
底片上	100 ～ 220 μm/eV , 300kV
樣品室
樣品移動(dòng)范圍 (XY/Z)	2mm/0.2mm	2mm/0.4mm	2mm/0.4mm	2mm/0.4mm
樣品傾斜角 (X/Y)	±25°/±25°*3	±35°/±30°*3	±42°/±30°*3	±38°/±30°*3
EDS*4
固體角	0.13 sr			0.09 sr
取出角	25°			20°