JEM-3200FS場發射電子顯微鏡配備了加速電壓為300kV的場發射電子槍（FEG）和鏡筒內置式Ω型能量過濾器，能為廣泛的研究領域提供各種全新的解決方案。
鏡筒內置式Ω型能量過濾器(omega 過濾器)
鏡筒內置式Ω型能量過濾器內置于成像透鏡系統，能容易地獲得能量過濾像和能量損失譜，同時還能獲得與傳統電子顯微鏡同等的放大倍率范圍。此外、Ω型過濾器的電子光學系統在設計上地減少了圖像畸變，出廠前還將剩余一點的畸變做了最后的修正。JEM-3200FS還采用了高靈敏度的相機系統及圖像處理系統（選配件），可以構建元素面分布系統及能量損失譜系統。
新型控制系統
電子槍、電子光學系統、測角臺、抽真空系統等電子顯微鏡基本功能的系統化，實現了高穩定、高性能的控制系統。圖像畫面和用戶界面采用Windows ®*1，可以進行編程操作和附件的集中控制。
新型測角臺
系統化的新型測角臺內置壓電陶瓷驅動機構，使高倍率下的樣品移動更加精確。
*1 : 注意事項：Windows是微軟公司在美國和其他國家的注冊商標。
*2 : 僅有壓電元件包括在基本單元中，壓電元件的電源為選配件。
| 物鏡極靴*1 | 超高分辨UHR | 高分辨率HR | 高傾斜HT | 高襯度HC |
| 分辨率 | ||||
| 點分辨率 | 0.17nm | 0.19nm | 0.21nm | 0.26nm |
| 能量分辨率 | 0.9 eV（零損失FWHM） | |||
| 加速電壓 | 300kV，200kV,100kV*2 | |||
| 最小步長 | 100V | |||
| 電子槍 | ||||
| 發射體 | ZrO/W(100) 肖特基式 | |||
| 亮度 | ≧7×108 A/cm2 ? sr | |||
| 真空度 | 3×10-8Pa | |||
| 探針電流 | 探針直徑為1nm時，電流在0.5nA以上 | |||
| 穩定度 | ||||
| 加速電壓 | 2×10-6/min | |||
| 物鏡電流 | 1×10-6/min | |||
| 過濾器透鏡電流 | 1×10-6/min | |||
| 物鏡 | ||||
| 焦距 | 2.7 mm | 3.0 mm | 3.5 mm | 3.9 mm |
| 球差系數 | 0.6 mm | 1.1 mm | 1.4 mm | 3.2 mm |
| 色差系數 | 1.5 mm | 1.8 mm | 2.2 mm | 3.0 mm |
| 最小焦距步長 | 1.0 nm | 1.4 nm | 1.5 nm | 4.1 nm |
| 束斑尺寸 | ||||
| TEM 模式 | 2 ～ 5 nmφ | 2 ～ 5 nmφ | 7 ～ 30 nmφ | |
| EDS 模式 | 0.4 ～ 1.6 nmφ | 0.5 ～ 2.4 nmφ | 4 ～ 20 nmφ | |
| NBD 模式 | 0.4 ～ 1.6 nmφ | 0.5 ～ 2.4 nmφ | - | |
| CBD 模式 | 0.4 ～ 1.6 nmφ | 0.5 ～ 2.4 nmφ | - | |
| 電子束衍射 | ||||
| 衍射角(2α) | 1.5 t～ 20 mrad | - | ||
| 取出角 | ±10 ° | - | ||
| 倍率 | ||||
| MAG 模式 | ×2,500 ～ 1,500,000 | ×2,000 ～ 1,200,000 | ×1,500 ～ 1,200,000 | |
| LOW MAG 模式 | ×100 ～ 3,000 | |||
| SA MAG 模式 | ×8,000 ～ 600,000 | ×6,000 ～ 500,000 | ×5,000 ～ 500,000 | |
| 視野 | 10eV時狹縫寬度60mm(底片上) | |||
| 相機長度 | ||||
| 選區電子衍射 | 200 ～ 2,000 mm | 250 ～ 2,500 mm | 400 ～ 3,000 mm | |
| EELS 散射 | ||||
| 能量選擇 | 0.85 μm/eV , 300 kV | |||
| 底片上 | 100 ～ 220 μm/eV , 300kV | |||
| 樣品室 | ||||
| 樣品移動范圍 (XY/Z) | 2mm/0.2mm | 2mm/0.4mm | 2mm/0.4mm | 2mm/0.4mm |
| 樣品傾斜角 (X/Y) | ±25°/±25°*3 | ±35°/±30°*3 | ±42°/±30°*3 | ±38°/±30°*3 |
| EDS*4 | ||||
| 固體角 | 0.13 sr | 0.09 sr | ||
| 取出角 | 25° | 20° | ||
