產品型號

高真空單輥旋淬系統

主要特點

實驗型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料,本設備主要由真空腔體、熔煉裝置、噴鑄裝置、甩帶裝置、抽真空系統、爐體支架、電氣控制系統、水冷卻系統等組成。

技術參數

1、每次甩帶、噴鑄合金：50g~300g
2、每次熔煉澆鑄合金：50~1000g
3、高真空室真空度：≤5.0×10E-3Pa
4、加熱電源功率：25Kw； 頻率范圍：30~80KHz
5、可通入氮氣、氬氣等惰性氣體
6、銅輥直徑：220mm，寬度：40mm
7、銅輥線速度：5~70m/S
8、水流量：3~100L/min
真空腔體由爐體、爐蓋和爐底組成；爐體由304不銹鋼法蘭和內外筒體組焊而成，內壁鏡面拋光，爐蓋由整體實心304加工而成，上面開設有大直徑觀察窗，可直觀的觀測到爐內的各種實驗情況；爐門由整體實心304加工而成。
甩帶裝置：由噴鑄裝置、高速調速電機、磁流體密封裝置和銅棍等組成，可通過調節電機速度，實現不同銅棍線速度。
抽真空系統：由一臺分子泵、一臺雙極直聯泵、三臺氣動擋板閥、真空管路和真空計等組成，冷態極限真空度優于8.0×10E-5Pa。
爐體支架：由型材和鋼板拼裝而成，電控柜采用一體結構。 面板采用模擬屏，可直觀控制設備的各部件，并有水欠壓、斷水聲光報
警并自動切斷加熱功能。
水冷卻系統：由水冷機、各種閥門和水管等組成，帶有電接點水壓表，具有超壓、欠壓報警功能。

標準配件

可選配件