深度剖析——PP-TOFMS PP-TOFMS是HORIBA新研發的一款專用于固體材料中化學成分深度剖析的質譜分析儀。 PP-TOFMS主要由剝蝕和激發樣品材料的輝光放電等離子體源和飛行時間質譜儀耦合而成。 高通量和通用性深度剖析技術 高離子密度使得輝光放電等離子體的濺射速率非?？?，此外，由于樣品分析無需超高真空腔，可以極大地縮短預分析時間。通常，一個亞微米厚的薄膜僅需幾分鐘就可獲得分析結果。 PP-TOFMS采用的射頻激發源適用于任何類型的材料分析，從導體到非導體（如厚玻璃基體上的薄膜）；從無機材料到混合材料。柔性基底材料表面的鍍層通過簡單的樣品預處理后，同樣也可采用PP-TOFMS進行深度剖析。 高動態范圍 PP-TOFMS是一種融合了質譜和高強度等離子體源的所有優勢后形成的高靈敏度分析技術。它在納米深度分辨率下信號的動態范圍可達到106，在深度剖析或基體分析時靈敏度可達到亞ppm級。分析過程中樣品的剝蝕濺射與離子化發生在輝光放電腔的不同位置，空間上的相互獨立可使基體效應最小化，并且通過內部簡單的校準即可直接獲得半定量結果。 全質譜覆蓋 飛行時間質譜儀的優勢是能夠連續記錄完整的質譜數據，它每33微秒就可以記錄元素周期表中所有元素的全質譜圖，任何元素都可以根據剝蝕時間/深度進行監控。這不僅意味著您不僅可以毫無風險地檢測到任何元素隨深度的變化，而且還可以檢測到那些您意想不到的污染元素。 此外，所有的同位素都可以被檢測，這對于通過同位素標記研究同重元素干擾或是氧化、擴散機理的人員非常重要。
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等離子體分析飛行時間質譜儀（PP-TOFMS） 產品信息
