詳情介紹:
特殊長度
- 可以在紫外可見光(300-800 nm)波長范圍內測量橢偏參數。
- 可以進行納米級的多層薄膜厚度分析
- 通過多通道光譜儀可快速測量橢圓偏振光,可測量400通道或更多通道
- 通過可變反射角測量支持對薄膜的詳細分析
- 通過創建光學常數數據庫并添加配方注冊功能來提高可操作性。
測量項目
- 橢偏參數(tanψ,cosΔ)測量
- 光學常數(n:折射率,k:消光系數)分析
- 膜厚分析
測量目標
- 半導體晶片
柵極氧化物薄膜,氮化物膜
SiO 2,Si x O y,SiN,SiON,SiN x,Al 2 O 3,SiN x O y,多晶硅,ZnSe,BPSG,TiN的
光學常數(波長色散)抵抗 - 化合物半導體
Al x Ga (1-x)作為多層膜,非晶硅 - FPD
取向膜 - 各種新材料
DLC(類金剛石),超導薄膜,磁頭薄膜 - 光學薄膜
TiO 2,SiO 2,減反射膜 -
在每個波長下的光刻場n,k評估,例如g線(436 nm),h線(405 nm),i線(365 nm)
- 產品信息
- 原則
- 規格
- 測量例

相關信息
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