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廣電計量檢測集團股份有限公司

ICP-601型: 耐氟基或更弱腐蝕性氣體刻蝕機

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱北京創世威納科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2022/12/17 18:50:55
  • 訪問次數269
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北京創世威納科技有限公司成立于2008年,現位于北京市昌平區回龍觀北京國際信息產業基地高新二街2號4層,擁有1800余平方米的組裝、調試車間、辦公區,現在我們更專注于真空等離子體技術,成為集研發、設計、生產、銷售于一體的設備制造商。公司通過了ISO質量管理體系認證,獲批,擁有4項發明及十余項實用新型,北京創世威納緊跟步伐,不斷提供技術*、性能優良的鍍膜設備、刻蝕設備、真空應用定制設備及各類真空等離子體設備,應用于各研究院所、大專院校、企業單位。創世威納在所有客戶、合作伙伴、供應商及各界朋友的支持和幫助下走過了難忘的十年。十年來,我們本著“始于客戶需求,終于客戶滿意”的理念,不斷實現技術和產品創新,追求品質和優質服務,創世威納真誠地與廣大用戶和合伙作伴共贏合作,攜手共創未來。
應用方向:科研與教學產品優勢:耐氟基或更弱腐蝕性氣體產品配置:★樣片數量及尺寸:1片Ф6英寸★刻蝕材料:包括并不限于單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等★刻蝕腔體:高真空系統★刻蝕不均勻性:±3%-±6%★刻蝕速率:0
ICP-601型: 耐氟基或更弱腐蝕性氣體刻蝕機 產品信息

應用方向:科研與教學

產品優勢:耐氟基或更弱腐蝕性氣體

產品配置:

★樣片數量及尺寸:1片Ф6英寸

★刻蝕材料:包括并不限于單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等

★刻蝕腔體:高真空系統

★刻蝕不均勻性:±3%-±6%

★刻蝕速率:0.1-4μm/min(視具體材料與工藝)

★工作臺:可升降,包含水冷

★電源配置:上電極射頻,下電極偏壓,包含自動匹配

★氣路數量與種類:6路耐氟基腐蝕氣路 或 用戶選配

★深硅刻蝕系統:可選配

★He冷背吹系統:可選配

★終點檢測控制:可選配質譜儀

★操作模式:全自動+半自動控制

類似產品:帶單片送樣室(ICP-5100);帶單片送樣室耐氯氣腐蝕(ICP-5101)

設備詳細結構與功能,請咨詢銷售工程師。

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