英國Oxford Vacuum 電子束蒸發鍍膜機Vapour Station 4

微納器件樣品制備系統

產品簡介

該電子束蒸發鍍膜儀是一款微納器件樣品制備系統，為有機無機多源有 氣相分子沉積系統，高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各 種化合物、混合物單層或多層膜，具有高真空多源有機、金屬電阻蒸發及手 套箱保護條件下器件后期制作，主要用于有機半導體材料的物理化學性能， 研究實驗、有機半導體器件的原理研究實驗也可用于普通金屬電極蒸發鍍膜研究；

真空室采用優質不銹鋼，氬弧焊接、采用*鈍化處理工藝。基片臺尺 寸：3 英寸，配備一套 TELEMARK 的單袋電子束靶槍一套；鍍膜室用一臺 高精度石英晶振膜厚監測儀進行薄膜厚度監測，配備有原裝石英晶振探頭； 鍍膜生長室放置2個熱阻蒸發舟，是一款真空高性價比的電子束蒸發鍍膜機。

技術參數

尺寸:495 mm (L) x 485 mm (W) x 500 mm (H)

真空腔體:

真空腔體要求：樣品尺寸為 3 英寸，樣品臺直徑為 75mm； 薄膜均勻性≤±1%；

極限壓力：真空腔室薄膜真空度＜3×10-7 mbar；

真空計：真空測量系統，寬范圍的真空規，真空度小于 3×10-7mbar；

樣品夾：真空腔體里配有樣品夾，能夠固定住樣品；

擋板：真空腔體里配有沉積擋板，工作時能區分開不同樣品；

蒸發樣品池：配置單袋容量 1.5cc 的電子束靶槍，電源功率為3KW ；

蒸發舟：2個熱蒸發鎢舟，用于沉積一些熱蒸發材料；

薄膜監測儀：

.電腦控制的薄膜監測儀，能實時監測薄膜的厚度情況；

.測量頻率范圍至少包含6.0 to 5.0 MHz這個范圍；

.頻率分辨率應≤±0.03 Hz （at 6 MHz）； 測量間隔應≤0.10 s；厚度顯示分辨率≤1 Å；

真空系統：

.真空系統組成：應至少包含一臺干式渦旋泵和一臺渦輪分子 泵，美國安捷倫干式渦旋泵作為前級泵；

.愛德華渦輪分子泵：

-N2抽速：240 L/s；

-極限真空（ISO）：<6×10-8mbar；

-強制空氣冷卻，35°C,環境溫度：30sccm；

-標稱旋轉速度：60000rpm；

-待機旋轉速度范圍：33000-60000rpm；

-可編程功率限制范圍：50-200W

-強制空氣冷卻的環境空氣溫度：5-35°C；

-噪音級別：<45dB(A)

冷卻方式包含有風冷和水冷兩種方式可供提前選擇；