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IBE-200Z離子束刻蝕機

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱北京金盛微納科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2022/12/4 17:06:58
  • 訪問次數595
產品標簽:

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       北京金盛微納科技有限公司為國家、中關村,中國真空學會理事單位,中國電子專用設備工業協會、中國微米納米技術學會會員單位。主要從事半導體設備、微細加工設備的產品研制、設計開發、生產銷售,并開展相關工藝的研究及應用。主要產品有:勻膠機(SC)、烘膠臺(BP)、曝光機、刻蝕機(RIE、ICP、IBE)、等離子體淀積臺(PECVD)、磁控濺射臺(Sputter)、去膠機、濺射/刻蝕/淀積一體機、鍵合爐等。產品應用范圍涉及微電子、光電子、LED、MEMS、傳感器、平板顯示、通訊等領域,主要用于科研機構、大專院校、生產企業和公司進行各種器件的研究、開發和批量生產。公司建有“微細加工工藝示范線”以“開放實驗室”的形式對各大專院校、研究院所、企業等相關研究、生產單位開放。在“開放實驗室”里用戶可獲得:設備選型、項目預研與立項、合作攻關、工藝培訓、外協加工等服務支持。


公司特點

產品成線:公司可提供面向用戶研發與生產的工藝線上的核心設備,從勻烘系列、光刻系列、刻蝕系列、鍍膜系列、去膠、鍵合系列到組合設備。設備產品成線奠定了產品研發和生產過程中設備的協同,提供了研發和生產有效的工藝、工序保障。

產品立體化:公司依據不同科研單位、大專院校和生產企業的需求,生產標準(手動)設備、自動設備、具有LOAD-LOCK功能的全自動設備,以及為特定用戶個性化生產的組合設備。以此形成滿足不同層面、不同個性化需求的立體化設備產品體系,自動化設備以及內嵌的專家工藝,為產品生產的穩定性、工藝的重復性提供了有效的硬件基礎,使之更好地應用于科研和生產。

產品與工藝配套:依托公司完備的設備基礎和優勢的工藝力量,公司在產品設備上,開發了相應工藝,使之達到設備和工藝的結合,讓用戶獲得效果及解決方案。公司的“開放試驗室”還可提供完善、便捷的售后服務、技術支持,由此形成了既無前憂又無后顧的產品服務環境,成為公司產品占有市場的又一利器。


本產品是利用低能量平行Ar+離子束對基片表面進行轟擊,表面上未被掩膜覆蓋部分的材料被濺射出,從而達到選擇刻蝕的目的,它采用純物理的刻蝕原理
IBE-200Z離子束刻蝕機 產品信息
本產品是利用低能量平行Ar+離子束對基片表面進行轟擊,表面上未被掩膜覆蓋部分的材料被濺射出,從而達到選擇刻蝕的目的,它采用純物理的刻蝕原理。離子束刻蝕是目前所有刻蝕方法中分辨率,陡真性方法,它可以對所有材料進行刻蝕,例如:金屬、合金、氧化物、化合物、混合材料、半導體、絕緣體、超導體等。

詳細描述

本產品采用口徑φ200mm考夫曼型離子源,通過結構的雙鉬柵離子光學系統及SHAG技術保證在φ150mm范圍內束流的均勻性為±5%,電子中和系統可使樣片上的電荷積累為零。

本設備的刻蝕工作臺可繞工作中心自轉,離子束入射角可在0~90°之間任意調整。

本設備具有刻蝕速率穩定、均勻性好、重復性好等特點,可廣泛應用于微電子、光電子、通訊等領域的器件研發和制造。

自動控制系統采用工控計算機及PLC控制、觸摸顯示屏操作,實現真空系統及工藝過程自動化。本機可選擇全自動及非全自動模式。


產品主要性能指標

型號

IBE-200Z

真空系統

分子泵機組

刻蝕室數量

單刻蝕室

刻蝕室規格

435×406×490mm

工作臺尺寸

?200mm(片徑≤6英寸)

離子束入射角

0~90°之間任意調整

刻蝕速率

100?~2000?/min(與刻蝕材料和工藝有關)

刻蝕不均勻性

≤±5%

Ar+離子能量范圍

100~1000eV,連續可調

離子束流密度

0~1mA/cm2,連續可調

有效離子束直徑

≥?100mm(屏柵極直徑?150mm)

電子中和

帶有熱絲結構的電子中和裝置


關鍵詞:工作臺
15700106413
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