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Etchlab200 經濟型反應離子刻蝕機(可升級)

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公司名稱深圳市藍星宇電子科技有限公司
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廠商性質其他
更新時間2022/11/12 16:12:00
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深圳市藍星宇電子科技有限公司，經過十多年的紫外光專業技術沉淀，可以根據客戶特殊要求提供定制化服務，研發設計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準分子清洗機，等離子清洗機/去膠機等科研以及生產設備，擁有自主品牌及注冊商標。同時我們代理歐美日多家高科技設備廠家高性價比產品, 始終堅持創新, 技術, 服務, 誠信的企業文化，為廣大中國及海外客戶提供的儀器設備和材料的整體解決方案。應用領域: 半導體/微納，光電/光學, 生命科學/生物醫療等領域的研發和生產, 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業及醫療機構等。半導體/微納，光電/光學產品主要有：德國ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機，電子束光刻機, 激光直寫光刻機，紫外光刻機，微納3D打印機，德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積，英國HHV磁控/電子束/熱蒸發鍍膜機，微波離子沉積機MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機，電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質譜/波譜儀，美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈，美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管，德國Diener等離子清洗機等*技術產品。生命科學/生物醫療產品主要有：PCR儀，核酸質譜儀/核酸檢測儀，電子顯微鏡，紫外設備，光譜/色譜/質譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實驗耗材等。并可依據客戶需求，研發定制相關產品。我們以高性價比的優勢為客戶提供優質的產品與服務，為高等院校, 研究所，科技企業及醫療機構等客戶提供儀器設備和材料。

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Etchlab200 德國Sentech 經濟型反應離子刻蝕機(可升級), 具備低成本效益高的特點，并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過載片器，實現多片工藝樣品的快速裝載，也可以直接快速地把樣品裝載在電極上。RIE等離子體刻蝕設備具備占地面積小，模塊化和靈活性等設計特點。

Etchlab200 經濟型反應離子刻蝕機(可升級) 產品信息

Etchlab200 德國Sentech 經濟型反應離子刻蝕機(可升級)

經濟型等離子刻蝕設備EtchLab 200 具備低成本效益高的特點，并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過載片器，實現多片工藝樣品的快速裝載，也可以直接快速地把樣品裝載在電極上。RIE等離子體刻蝕設備具備占地面積小，模塊化和靈活性等設計特點。

商品描述：

低成本效益高

RIE等離子蝕刻機Etchlab 200結合平行板等離子體源設計與直接置片。

升級擴展性

根據其模塊化設計，等離子蝕刻機Etchlab 200可升級為更大的真空泵組，預真空室和更多的氣路。

SENTECH控制軟件

該等離子刻蝕機配備了用戶友好的強大軟件，具有模擬圖形用戶界面，參數窗口，工藝編輯窗口，數據記錄和用戶管理。

Etchlab 200 RIE等離子刻蝕機代表了直接置片等離子刻蝕機家族，它結合了RIE的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優點。Etchlab 200的特征是簡單和快速的樣品加載，從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab 200 的設計特點。位于頂部電極和反應腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進行原位監測。

Etchlab 200等離子蝕刻機可以配置成用于刻蝕直接加載的材料，包括但不限于硅和硅化合物，化合物半導體，介質和金屬。

Etchlab 200通過*的SENTECH控制軟件操作，使用遠程現場總線技術和用戶友好的通用用戶界面。

Etchlab 200