主要參數 外形尺寸 424(L)×345(D)×420(H) 輸入電源 220V/800W 可用靶材 所有金屬、部分化合物 靶材尺寸 φ57mm 真空室 高硅硼玻璃 φ200×130mm 工作介質 高純氬氣(≥4N) 低真空泵 旋片泵 抽速 1.1L/s 高真空泵 進口渦輪分子泵 抽速 90L/s 極限真空 ≤5×10-3Pa 工作真空 0.1-3Pa 濺射電流 5-200mA 可調 濺射時間 1-999s 可調 樣品臺 φ125mm 樣品臺轉速 4-20rpm 可調 顯示屏 7 英寸 TFT 彩色觸摸屏 抽氣節拍 ≤5 分鐘 進氣 全自動 放氣 全自動 預濺射 具備預濺射擋板,全自動控制 保護功能 過流保護、真空保護、分子泵過熱保護等 膜厚儀 (選配) 可實時顯示鍍膜厚度,并通過設定來控制鍍膜過程,測量精度 0.1nm,單次鍍膜設定范圍 1-999nm,測量范圍 10μm 其它 可根據用戶需要,提供定制化產品