3噸/小時二級反滲透純凈水設備主要用途

　　1、制取電子工業生產如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水。

　　2、制取熱力、火力發電鍋爐，廠礦企業中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。

　　3、制取醫藥工業所需的科研大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、科研無菌水及人工腎透析用純水等。

　　4、制取飲料(含酒類)行業的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類釀造水和勾兌用純水。

　　5、海水、苦咸水制取生活用水及飲用水。

　　6、制取電鍍工藝用去離子水;電池(蓄電池)生產工藝的純水;汽車、家用電器、建材產品表面涂裝、清洗沌水;鍍膜玻璃用純水;紡織印染工藝所需的除硬除鹽水。

　　7、石油化工業如化工反應冷卻水;化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品制造過程用工藝。

　　8、賓館、樓宇、社區機場房產物業的優質供水網絡系統及游泳池水質凈化。

　　9、線路板、電鍍、電子工業廢水處理及回用。

　　1、3噸/小時二級反滲透純凈水設備設計依據及處理水標準：

　　1.1原水：市政自來水。

　　1.2產水用途：生產用超純水。

　　1.3產水量：二級反滲透出水水量≥3.5 m3/h，EDI出水水量≥3 m3/h。

　　1.4出水水質：二級反滲透出水電導率≤5μs/cm，EDI出水電阻率≥15MΩ.CM， 總出水電阻率≥18MΩ.CM。

　　1.5系統配置：全自動預處理+二級反滲透除鹽+EDI精除鹽+終端處理。

　　1.6運行方式：自動控制運行。

　　1.7設計界線：從原水箱出口至用水點(詳見工藝流程圖)。

　　1.8設備工藝參數滿足《工業用水軟化除鹽設計規范》(GBJ109-87)。

　　1.9設備安裝調試滿足《給水排水工程施工驗收規范》(GB1328-1995)。

　　1.10其它涉及的設計基礎條件將在技術討論中確定。

　　2、3噸/小時二級反滲透純凈水設備對外界要求：

　　2.1進水管：進水管接至原水箱入口。

　　2.2供電纜：根據算出的容量，用戶將動力電分別送至操作控電控柜上。

　　2.3出水管：至用水點。(詳見工藝流程圖)。

　　2.4地基要求：地基承載力≥5噸/平方

　　2.5廢水處理：排至廠房內地溝(用戶考慮)。

　　2.6系統水溫：常溫。

　　3、3噸/小時二級反滲透+EDI設備超純水設備工藝流程示意圖

　　本工藝包括預處理部分、二級反滲透部分、EDI部分。