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廣電計量檢測集團股份有限公司

CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱磐石創新(江蘇)電子裝備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2022/10/22 16:43:14
  • 訪問次數470
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磐石創新(江蘇)電子裝備有限公司是一家集半導體、微電子、新材料工藝設備研發、生產、銷售于一體的高科技企業,專業為客戶提供交鑰匙工程以及整體生產線改造升級解決方案。總部于2018年從北京遷至江蘇徐州,北京設有研發中心。一期在徐州工業園租用辦公生產場地共14000平米,二期將啟動規模為100畝土地的項目投建,2019年將啟動項目投建,設立辦公大樓、研發樓、標準廠房。 公司匯聚了眾多相關行業、領域的高級管理和技術人才,具有自主研發、設計和制造工藝設備的能力。長期與大專院校、研究院、用戶企業等相關單位建立開放式技術合作,旨在不斷解決工藝制備領域不斷變化的市場需求、不斷突破國外廠家長期以來形成的技術壁壘。以靈活、創新的合作模式,打造高效的技術研發平臺,不斷提升產品核心技術。 主營產品:半導體工藝爐設備、真空類設備、清洗類設備、輔助配件、智能工廠生產線。
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機主要由鍍膜腔室(500H430mm),永磁圓形平面靶,真空系統,旋轉加熱基片臺,氣路系統,電氣控制及報警保護系統等組成。
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機 產品信息

CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機主要由鍍膜腔室(φ500×H430mm),永磁圓形平面靶,真空系統,旋轉加熱基片臺,氣路系統,電氣控制及報警保護系統等組成。

設備特點及主要用途

CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機主要由真空專用不銹鋼腔室、四只3英寸圓形平面磁控靶;直流、射頻濺射電源各一臺。機械泵+分子泵高真空系統、旋轉、加熱基片臺(室溫至300±1℃可調可控)、機架、氣路、水路、邏輯按鈕控制及安全保護等組成。該設備選配電源可具備四靶共濺射功能,實現一機多用,可開發納米級單層或多層的導電膜、金屬膜、半導體膜、絕緣膜等。整機結構緊湊、占地小、操作方便、抽真空速度快。

技術參數

真空腔室

φ500×H430mm

真空系統

復合分子泵+直聯旋片泵,氣動真空閥門

真空極限

優于8.0×10-5Pa

抽速

從大氣抽至6.0×10-3Pa≤15min

基片臺

基片臺尺寸:φ150mm

基片加熱與旋轉

襯底加熱:室溫~300℃,自動測溫,PID控溫;基片旋轉:0-50轉/分鐘,可調可控

濺射靶規格

3英寸,四只

膜厚不均勻性

≤±5%

控制方式

手動按鈕控制;(自動控制可選)

報警及保護

缺水報警,強制水冷,過流過壓等異常情況自動執行保護功能

占地面積

長×寬: 1700×1600mm

15700106413
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